台积电技术主管杨光磊谈到华为7nm芯片时,说了一番话,令人感慨万千。

打开网易新闻 查看精彩图片

他表示,DUV光刻机本来就可以做出7nm,甚至5nm。台积电在EUV光刻机没有使用之前,第一代7纳米也是用的DUV制造。能不能制造不是问题,问题是制造的芯片良率,散热和成本,并暗示了华为7纳米芯片的成本和发热问题。

杨光磊是典型的技术大咖,在从事芯片领域相关工作几十年,先后在麻省理工实验室、惠普、新加坡特许半导体、世大、台积电、中芯国际任职,并且和梁孟松是同学。

打开网易新闻 查看精彩图片

他谈到梁孟松时这样说:梁孟松当时学的并不是制程,但他就是这样的偏执的技术天才,有很强的自学能力,通过不停的转岗,最终打通了芯片制造产业链。

梁孟松是在用生命在制程,凭一己之力,将中国大陆的芯片推进到7纳米时代。如果不是梁孟松的话,大陆的芯片制程工艺还停留在28纳米上。

所以,他所说的这些问题,的确是国产芯片现阶段面临的。

对于,国产7nm芯片,杨光磊是这样理解的,美国并不是阻止中国制造7nm、5nm芯片,而是让中国在芯片无法与国际先进水平保持同步,同时还要承担更高的成本和更低的良品率。

而事实是,有了梁孟松的加入,中芯国际已经在5nm工艺上有了足够的技术储备,只待EUV光刻机,届时可实现国产5nm、甚至3nm。

而杨光磊认为,台积电内部拥有众多像梁孟松一样的技术大咖,他们共同构成了台积电强大的技术实力。而中梁孟松带领中国大陆芯片产业突围,就像林书豪带领CBA球员挑战美国NBA一样。

杨光磊的这番言论引起了争议,中国芯片的突围不仅仅依靠强大的技术人才,更重要的是产业链上下一心共同的努力。

梁孟松有多牛

先来看一看牛叉的简历:

打开网易新闻 查看精彩图片

梁孟松,电子工程学家,电机电子工程师学会院士,先后任AMD工程师、台积电资深研发长、三星电子研发副总经理,中芯国际联席CEO。

毕业于美国加州大学电机工程及计算机科学系博士学位,其导师是举世闻名的FinFET发明人胡正明。

在美国专利局的资料库里,梁孟松参与发明的半导体技术专利有181件,全部都是最先进、最专业、最重要的先进制程研发。

“三大战役”

第一战:130nm之争

2003年,台积电与IBM在130nm领域展开激烈的竞争,蒋尚义、梁孟松共同负责技术研发。

最终台积电率先突破130nm工艺,成功击败了IBM,表彰会中,蒋尚义首功,梁孟松次之。

第二战:14nm之争

打开网易新闻 查看精彩图片

2011年2月,梁孟松加入三星,任三星电子研发副总经理。在视察了三星芯片制造工厂后,提议跨过20nm、16nm制程,直接由28nm升级14nm。

最终,梁孟松凭借丰富的经验,带领三星成功拿下了14nm制程,比台积电还要早半年,更是从台积电手中夺走了苹果、高通的订单。

第三战:国产芯片升级5代

2017年,梁孟松加入中芯国际,任联合CEO。

三年内完成了28nm、14nm、12nm、n+1、7nm工艺的量产,5nm、3nm最关键的8项核心技术有序开展,只待EUV光刻机。

打开网易新闻 查看精彩图片

三星前会长李健熙评价梁孟松:只需要三个比尔盖茨就能把韩国提升一个档次,自己的责任就是找到这三个人,其中梁孟松就是其中之一。

台积电前研发处长杨光磊评价梁孟松:梁孟松是我见过世界一流高手中的第一名,如果有华山论剑比赛,他可以一对一打赢所有对手(技术人员)

因为梁孟松在芯片领域超强的造诣,带领中芯国际先后突破5个关键节点,这才有了杨光磊“没有梁孟松,大陆芯片将停留在28nm层面”的言论。

虽然杨光磊的言论有些偏激,但是在一定程度上,这的确是我们面临的窘境。

打开网易新闻 查看精彩图片

国产芯片制造领域以中芯国际为代表,公司成立于2000年,创立至今,先后经历了创始人离职、8年诉讼败诉、业绩大幅亏损、技术人员离职等风波。

但是公司在国资的帮助下,不但重新走上了正轨,更是大规模扩产,工艺制程上也开始快速迭代。

根据机构最新统计,中芯国际已经是全球第三大晶圆代工厂,仅次于台积电、三星,工艺制程也进入了7nm,前景一片光明。

中芯国际背靠中国这个最大的芯片市场,在订单方面不用愁,产能利用率提升至了90%以上。

与此同时,台积电在美方的授权下开始“断供”内地7nm、5nm AI芯片,涉及百度、阿里平头哥、地平线、摩尔线程等多家企业,这些企业有望把订单转移至中芯国际。

而中芯国际要做的就是“吃下”这部分订单,但苦于没有EUV光刻机。

打开网易新闻 查看精彩图片

虽然采用DUV光刻机也可以制造7nm芯片,但无论是多重曝光、3D封装技术都将增加成本,降低良品率,在与海外企业尤其是英伟达的竞争中国落败。

而根据出口政策限制,EUV光刻机及其零部件对大陆企业依然是禁售状态,唯有自主研发才能获得。

目前国产EUV光刻机也在快速攻关,在EUV光源、反射物镜、双工作台方面取得了很大进步,但是距离商用还有一段距离。

去年,中科院院长考察长春光机所,对EUV技术的进步给予了高度肯定,这件事一度引起了ASML的不适,ASML总裁温彼得称:中国自主研发光刻机是对全球产业链的破坏。

这也从侧面反映,国产EUV光刻机的进步,相信3、5年后就会造出试验机型。

打开网易新闻 查看精彩图片

所以短期内,我们仍然面临着先进芯片的制造难题,我们的智能手机芯片、电脑CPU、AI芯片仍然会与海外先进芯片存在较大差距。

但是,再难的技术也是人攻克出来的,只要我们坚持开放,坚持吸引人才、留住人才、用好人才,就一定会在先进芯片领域实现突破、逆袭。

我是科技铭程,欢迎评论区留言,共同讨论!