光刻胶产业化再度传出利好。
近日，光谷企业在半导体专用光刻胶领域实现重大突破，国产光刻胶通过量产验证，武汉太紫微公司 T150 A 分辨率达 120nm。
较于被业内称之为‘妖胶’的国外同系列产品 UV1610，T150 A 在光刻工艺中表现出的极限分辨率达到 120nm，且工艺宽容度更大，稳定性更高，坚膜后烘留膜率优秀，其对后道刻蚀工艺表现更为友好，通过验证发现 T150 A 中密集图形经过刻蚀，下层介质的侧壁垂直度表现优异。”
此前我国在光刻胶领域，被美垄断近四十年。
彼时，光刻胶巨头JSR的CEO埃里克·约翰逊曾如此嘲讽道：“就算把光刻胶的制造论文给中国，他们也无法攻克。
然而眨眼间，中国企业就狠狠打了约翰逊的脸，他们用实实在在的技术专利让约翰逊的言论沦为国际笑谈。就连习惯带节奏的美媒都不得不承认：中国，这次赢麻了！
光刻胶，是芯片生产过程中发挥着关键作用的一种重要材料，缺少它，哪怕拥有再好的光刻机也无法生产出芯片。
高端光刻胶对纯度有极高的要求，其生产技术一直被美国、日本等公司牢牢把持着，占据了全球约80%以上的市场份额。我国光刻胶产业由于起步较晚，只能生产一些低端光刻胶，高端光刻胶则长期依赖进口。
如此重要的产业，自然也不会被美国放过，隔三差五就用它拿捏我国，并扬言：“只要我们一断供，中企就得完蛋！
我国科学家看到这一幕，便发誓要攻克高端光刻胶难题，重新掌握主动权。正是凭借着这一股不服输的韧劲，来自国内的一家小厂——博康，终于在高端光刻胶领域取得重大突破，一举将国产光刻胶纯度提高10倍，彻底打破老美垄断局面，令一众外媒如丧考妣。
就是要告诉他们，不要以为凭借起步早，就可以仗势欺人，只要给中国时间，我们可以在任何领域和美国一较高下”。我国科学家表示。
事实上，这已经不是美国第一次在尖端科技领域挑衅我国了。此前，在高铁建设、空间站、GPS以及备受瞩目的生命科学领域，我国都受到老美打压。如今，中国的高铁建设早已做到世界第一，空间站与GPS亦处于前列水平，就连老美意图垄断的抑衰科技成果也已被我国一手掌握
这与老美在光刻胶领域的做法一模一样：一边打压，一边还要挣我国的钱。不过，当高端光刻胶技术被中方打了个漂亮的翻身仗之后，老美这些吃相难看的花招，就再也翻不起水花。
我国“小厂”博康的技术突破后，迅速引来了大量的国际关注，但也有一些媒体质疑“中方在打肿脸充胖子，实际上并没有突破”。
现实的耳光来得凌厉且响亮。原来博康早在2021年就获得了华为旗下公司的3亿元投资，在宣告技术突破后，博康便迅速投入到量产，正式推向市场，结果在欧美老牌大厂眼皮子底下掌握了80%的技术，夺下5%的市场份额。
要知道此前中国半导体光刻胶国产化率仍处于较低水平，KrF、ArF光刻胶对外依赖较为严重，国产化率均仅在1%水平。
除博康之外，国内其他光刻胶厂商也迎来了技术突破，如南大光电的ArF光刻胶也已建立起了产值25吨的生产线；上海新阳公司研发的KrF光刻胶通过认证，并成功获得订单。
未来光刻胶100%国产化势在必得。如此看来，老美的阴谋已然被中国一步步粉碎。
现下太紫微公司的这一最新突破，不仅证明了中国在光刻胶领域的自主创新能力，也为半导体制造行业带来新的希望。随着国产光刻胶技术的不断成熟和市场验证，预计国内光刻胶企业将在未来占据更高的市场份额，为中国半导体产业的自主可控提供有力支撑。
而且我们相信这只是一个开始，技术反攻的号角才刚刚吹响。
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