热丝化学气相沉积（ hot filament chemical vapor deposition,HFCVD）是目前BDD 的主要制备方法，通过调节HFCVD生长参数，如热丝温度、气体成分、碳源浓度、丝底距离等，可对 BDD 薄膜的表面微观形貌（如晶粒尺寸、晶粒取向、晶型等）以及截面形貌（如柱状晶结构、等轴晶结构等）进行调控，从而进一步调节其薄膜性能，将其用于不同的应用领域。
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