光刻机技术实现史诗级突破，绕过阿斯麦的技术壁垒，中国芯片最后一块短板即将补缺完整！
机构和游资已经在提前行动。如果你还不知道就要亏大了。
重点关注这家国产光学材料龙头，实现“0突破”技术世界领先，被中科院点名认证，机构逆势大买1亿股，有望带领大盘爆发反转主升浪！
中国高端制造再传捷报！
据哈尔滨工业大学消息，该校航天学院赵永蓬教授团队研发的放电等离子体极紫外（EUV）光刻光源，取得颠覆性技术成果。
这一技术的突破，不仅绕过ASML的技术壁垒，更为我国高端芯片制造的未来提供了全新可能。
现在全网都在讲光刻机，但真正能说到点上几乎没有。通俗来说，光刻机就是用光源发出激光，再通过光学系统投射到硅片上，并形成具有精确图案的光点。
就这一个过程，融合了物理学、自动控制学、软件学等四十多门学科，需要四十多万个精密零部件的默契配合，更涉及到五千余家供应商。
光刻机的制造难度超乎常人的想象！
其中最为关键的就是光源技术和光学系统，可以说掌握了这两大技术，光刻机国产替代就完成了80%以上。
而这次哈工大光源技术突破更是意义重大，直接推动国产光刻机加速研发和国产化替代进程，毫不夸张的说已经涉及到国运。
光刻机国产替代已经不再是遥不可及的梦想，掌握光源和光学系统核心技术的企业，将迎来前所未有的历史性机遇。
为此经过深度复盘整个市场，发现当前具备这两个核心技术的企业只有这两家。
晶方科技，公司通过收购荷兰子公司打入ASML供应链，拥有混合镜头、晶圆级微型光学器件工艺技术设计、特性材料及量产能力。
第二家：极具爆发潜力
公司在光源物镜方面，拥有国内一流的光学精密机械与光学材料研发和生产能力；在光学系统方面，掌握精密机械加工、光学材料生产、光学元器件加工等方面的独有的几十项关键技术。公司不仅是工信部认可的光刻机王者，还与华为、中科院这样的顶级科研机构达成了战略合作，近期更是被机构大举加仓1.13亿股，股价已经出现三线金叉信号，后续随时可能迎来暴力拉涨！老规矩，想知道的朋友，莱蚣众呺：秦板，名字是秦板，别搞错了，发送“小牛”即可免费领取，记得保存收藏，新来的伙伴点点关注！
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