在过去几年，美国那边变着法子出台限制措施，恨不得把每一颗螺丝钉都加上“禁售”的标签。
他们以为，只要掐断了光刻机这个“工业母机”的咽喉，中国的芯片产业就会立刻瘫痪，甚至倒退二十年。
结果他们大概做梦也没想到，中国人有一种刻在骨子里的生存智慧，叫做“深挖洞，广积粮”。
在2023年以及2024年这两年间，中国几乎是以一种“清空库存”的架势在买入设备。
拿2024年的几个季度来说，中国大陆市场在ASML总营收中的占比一度飙升到了40%以上，甚至在个别季度接近一半。
这意味着这家全球垄断的荷兰巨头，生产线上每下线两台机器，就有一台被装进集装箱，漂洋过海运往东方的港口。
那些日子，国内的芯片厂房里灯火通明，工程师们不是在调试设备，就是在等待设备进场的路上。
即便有些厂房的屋顶还没完全封顶，设备就已经先运到了仓库里“待命”。
这种行为在当时被外媒嘲讽为“恐慌性囤货”。现在看来，那不是恐慌，那是最高明的战略远见。
而且，一直以来，外界都有个误区，觉得没有EUV（极紫外）光刻机，我们就造不出高端芯片，只能在成熟工艺里打转。但是，事实并非如此。
荷兰媒体这次说了句大实话：中国目前囤积的大量浸润式DUV光刻机，完全具备制造先进制程芯片的能力。
拿技术原理来说，EUV确实是一支极细的“画笔”，能轻松画出最精细的电路图。但DUV这支“粗笔”就不能画细线了吗？当然能。
只要运用“多重曝光”技术，通过多次蚀刻、多次对准，我们照样能用现有的设备生产出5nm甚至更高级别的芯片。
虽然这样做工序会变多，良品率会受挑战，成本也会相应增加。
但在国家战略安全面前，在必须解决“有无”问题的时候，这点成本完全是可以接受的，也是值得投入的。
我们在2025年虽然进口的光刻机数量有所下降，但进口总金额并没有跌多少。
我们不再是大海捞针般地买大路货，我们将采购重点完全转移到了高端浸润式光刻机上。
这些被“抢”回来的高端设备，构成了我们庞大的产能基石。
那位荷兰分析师在文章里感叹：中国这几年积攒的“家底”，加上ASML在禁令生效前加速发货的那些设备，已经形成了一个巨大的缓冲池。
即使未来几年一台设备都买不到，我们现有的库存也足以支撑中国半导体产业满负荷运转5到10年。
5到10年，对于半导体技术迭代来说，这简直就是一段漫长的“光年”。
有这十年时间做缓冲，我们的国产光刻机研发团队早就有了足够的时间去试错、去迭代、去突破。
本来，美国想用“断供”来逼死我们。
结果却恰恰相反，他们亲手为中国制造腾出了最宝贵的时间窗口，并且倒逼我们完成了全产业链的布局。
拿我们熟知的几个国产设备大厂来说，正是利用这几年的缓冲期，他们在刻蚀机、薄膜沉积设备等领域已经杀出重围，甚至在某些细分指标上超越了国际同行。
关于EUV光刻机，我们必须保持清醒。虽然荷兰媒体认为我们“并不非要不可”。
但我们心里得清楚，想要站在世界科技的巅峰，这颗“皇冠上的明珠”我们必须摘下来。
不过好消息是，我们本来也从没指望过别人施舍。
就在我们使用囤积的DUV设备稳住阵脚的同时，国内的科研攻关从未停歇。
从光源到双工件台，从光学镜头到精密控制系统，无数个日日夜夜的攻坚，好消息正在频传。
我们有理由相信，国产EUV光刻机的问世，不会让我们等太久。
那些曾经试图卡住我们脖子的手，最终会发现，他们卡住的只是自己通往未来最大市场的路。
我们囤积的不仅仅是几台机器，我们囤积的是信心，是底气，更是通往未来的入场券。
至于那5到10年的时间窗口，我们一定会用好。
等到那个窗口期结束的时候，恐怕世界上再也没有什么力量，能够阻挡中国芯的澎湃算力。
参考文献： ASML财务报告数据库（2023-2025）：关于中国大陆地区光刻系统出货量及销售额占比的统计数据。 国际半导体产业协会（SEMI）全球晶圆厂预测：2023-2026年中国大陆晶圆产能扩张及设备支出趋势分析。 Bits&Chips（荷兰科技媒体）：2026年1月关于中国光刻机库存及DUV多重曝光工艺可持续性的深度报道。 中国海关总署统计年报：2023-2025年半导体制造设备（HS编码8486系列）进口数据分析。 《电子工程专辑》：关于浸润式光刻机多重曝光技术在7nm/5nm制程良率与成本的行业分析报告。
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