说起中国光刻机的发展，很多人第一时间想到的是那些高端技术壁垒，但其实背后有不少鲜为人知的实打实努力。贺荣明这个人，在2002年的时候就被派去负责上海微电子装备公司的组建，这家公司就是专攻光刻机的。
那个年代，中国在半导体装备上基本是起步阶段，基础薄弱得不行，国外企业把核心技术捂得死死的。贺荣明本来在上海电气总公司干得风生水起，但一头扎进这个领域后，发现差距大到让人直摇头。他没急着到处求人，而是先从国内资源入手，联合几所大学培养人才，同时还想办法拉国外专家过来帮忙。这事儿听起来简单，做起来可费劲了。
先聊聊公司怎么起步的。2002年3月，上海微电子装备有限公司在张江高科技园区挂牌，资金主要是上海市政府和一些地方单位出的。贺荣明当董事长兼总经理，带了个小团队，从头建实验室和生产线。
早期员工就几十号人，设备全靠进口，办公地方也简陋。贺荣明评估了国内精密制造水平，发现光学、机械和软件控制这些环节跟国际比差远了。他定了个长远计划，分成技术引进、人才积累和自主研发三步走。那个时候，中国半导体产业正从代工转向创新，光刻机作为芯片制造的核心装备，卡脖子问题特别严重。没有这个，芯片全产业链就谈不上完整。
贺荣明带队去德国谈合作，因为德国在工业精密领域牛气冲天。结果德国企业那边工程师直接泼冷水，说中国基础太差，就算给全套图纸也造不出来。这话虽然扎心，但也点醒了贺荣明。他转而专注本土人才，从2003年开始，公司跟上海交通大学、浙江大学、华中科技大学这些学校合作，开光学和精密工程专业。
学生读研读博期间，就能进公司实习，动手做光学镜片校准、激光源调试这些活儿。公司还给这些年轻人规划职业路子，要么升管理层，要么当技术带头人，负责具体模块研发。到2005年，这招拉来上百毕业生，团队慢慢壮起来。
2004年，公司拼出第一台光刻机样机，是投影式的，针对中低端芯片加工。测试时，遇上光学对准精度难题，团队反复调激光和镜头，花了好几个月。贺荣明协调供应商，从国内买部件，关键的从国外进。
2005年，这台样机上生产线，在小半导体厂试跑，证明了从纸上到实物的可行性。但这还只是入门级，离高端远着呢。公司接着跟科研院所联手，开发控制软件。2006年，改进版设备出来，分辨率提到微米级，应用范围广了点。
2008年，出事儿了。一家外资半导体公司用双倍工资挖走一批工程师，这些人手里捏着光学集成和软件调试的技术。公司项目差点儿卡壳，贺荣明赶紧建知识库系统。规定每个项目完事儿后，必须交技术文档，里头有设计参数、测试数据、故障处理办法。审核通过就存档，新人上手快多了。就算有人跳槽，知识也留下来。公司还加严保密条款，防敏感信息漏出去。这波操作后，团队扩到几百人，效率上去了。
专利这块儿，贺荣明从一开始就盯紧了。从2002年起，他就组专利团队，查国际数据库，找空白点申请。
2009年，公司申请了光学镜头涂层和曝光控制的专利。2010年，跟欧洲供应商合作，引部件技术，顺带申请联合专利。这给自主开发打下底子。公司还搭上国家科技项目，拿资金买精密仪器。
2011年，推出90纳米制程的光刻机原型，里头用了国产光学模块，测试分辨率到中游水平。研发中，团队搞定振动控制，用精密减震平台。贺荣明推高校联合实验室，共享设备。
国外专家这事儿，是贺荣明的一大招。他从2000年代中期开始，邀请欧洲和美国的老工程师过来。这些人干光学几十年，经验老道。他们定期飞上海，给讲座，帮调试设备。比如，有德国专家优化激光源稳定，美国专家教机械装配规范。
公司团队学到国际操作标准，项目推进快了。这帮外国人不是白请的，贺荣明通过政府渠道，给他们提供指导机会，还签合作协议。渐渐地，形成一支混编团队，中国工程师跟国外专家并肩干活，技术交流频繁。到2010年代初，这模式帮公司从中低端往中端爬。
2012年，欧洲一家公司在中国申请光刻机专利，权利范围拉得老大，明显想堵中国路子。上海微电子团队一查，发现专利漏洞多，描述宽泛，没细化实施细节。公司向国家知识产权局提异议，递证据。
审两次后，专利一半被砍。公司马上补自家技术，申请修正，把剩的部分纳入自家保护。这招反客为主，把对手的专利变成自家壁垒。从那以后，公司专利池子大了，防国外卡脖子。
公司没停步。2017年，出后段封装光刻机，用在芯片组装线上。2020年，90纳米设备交付客户。2021年，据说搞出28纳米光刻机，差距缩小了。目前，正往更先进节点冲。贺荣明还通过星空科技收购中旗新材，进半导体材料领域，当实际控制人。公司2025年部分业务拆成芯上微装，继续光刻机业务。现在，上海微电子在自主技术上站稳脚，虽极紫外光刻还需追赶，但在中国半导体装备里算中坚力量。
