大家都知道，ASML花了40年才把光刻机做到全球顶尖，几乎垄断了高端市场。
但最近一位荷兰半导体专家坦言，中国企业在光刻机上的投入，比当年的ASML还要拼、还要狠。
没有捷径可走，就埋头一点点攻坚，不声不响推进技术突破。
可让人好奇的是，中国企业这番“死磕”，真能打破ASML的垄断，闯出一条属于自己的路吗？
ASML的40年
很多人以为ASML一开始就是行业巨头，其实不是。
1984年，荷兰的飞利浦和ASMI两家公司联手，凑钱成立了ASML，刚开始就几十号员工，挤在荷兰埃因霍温一个简陋的厂房里，条件差到下雨天还会漏雨。
信息来源：荷兰光刻巨头，+诞生于一个4.5万人的小镇
那时候的光刻机市场，根本没ASML的位置，美国的GCA、日本的尼康和佳能，三分天下，占据了几乎所有市场份额。
ASML早期做出来的产品，性能很一般，连一些小厂家都不愿意用，只能靠飞利浦的内部订单勉强维持运转，好几次都差点撑不下去。
从成立到真正站稳脚跟，ASML熬了十几年，1991年，他们推出了PAS5500系列光刻机，靠着精准的对准技术，才从尼康、佳能手里抢下第一批客户。
1995年公司上市，募集到的所有资金，他们没用来扩张，全砸进了研发。
2000年，ASML收购了美国的硅谷集团，整合出193纳米扫描技术，这才拿到了给英特尔供货的资格，真正在行业里站稳了脚。
最耗时的是EUV光刻机的研发，从1997年立项，到2013年第一台能用于生产的机器出货，整整花了16年。
这期间，光源系统反复出问题，炸了上百次，德国蔡司的工程师，为了打磨出纳米级精度的镜片，在无尘室里一待就是十几个小时，吃饭睡觉都在实验室附近。
40年下来，ASML熬死了很多竞争对手，也整合了全球的供应链。
一台光刻机有10万个零件，镜片来自德国蔡司，光源来自美国，传感器来自日本，需要上百家供应商一起配合。
到现在，全球7纳米以下芯片制造的光刻机，基本都被ASML垄断，没有它，很多高端芯片就造不出来。
那位荷兰专家说，他们的成功，没有捷径，就是慢功夫磨出来的，每一个零件都做到极致。
中国企业的困境
中国企业涉足光刻机领域，比ASML晚了整整30多年，起步的时候，面临的困难比当年的ASML还大。
2002年上海微电子成立的时候，中国在光刻机领域几乎是一片空白，没有核心技术，没有成熟的供应链，甚至连相关的人才都很稀缺。
更难的是，美国联合荷兰、日本，对中国实施技术封锁，最先进的EUV光刻机，明确禁止卖给中国。
就连相对普通的DUV光刻机，也层层受限，核心零件买不到，技术资料查不到，甚至有国外专家直言：“中国永远造不出高端光刻机，给你们全套图纸，你们也造不出合格的零件。”
那时候，很多人不看好中国能搞出光刻机，觉得我们起步太晚，差距太大，再加上封锁，根本没有机会。
但中国企业没有放弃，越是被限制，越要咬牙坚持，这份狠劲，不是喊口号，是实打实的投入和坚守。
可能有人会问，为什么一定要自己搞光刻机？因为核心技术靠别人，永远没有主动权。
别人一旦断供，我们的芯片产业就会陷入停滞，手机、电脑、新能源汽车等很多行业，都会受到影响。
所以，搞自主研发，不是为了争第一，是为了不被别人“卡脖子”。
三中国企业的狠
荷兰专家说，ASML的成功，是靠全球供应链“搭积木”，整合各国的核心技术，而中国企业，是自己“造积木”，从最基础的零件开始，一步步自主研发，这种狠劲，很少见。
先说说上海微电子，这家2002年成立的公司，早期其实就是一个科研项目组，人不多，资金也有限，他们没有盲目跟风ASML的技术路线，而是从成熟制程开始，一步步摸索。
信息来源：中国机会｜ASML：半导体产业开放合作是主流
2023年，他们推出了SSA800浸没式光刻机，能生产28纳米芯片，已经交付给中芯国际使用。
现在，上海微电子的系统能支持90纳米以上的芯片制造，在国内的市场份额达到90%，全球占比35%。
要知道，ASML花了20年才达到这个渗透率，而上海微电子只用了20年左右，速度已经很快了，而且他们的零部件国产化率超过75%，不用再完全依赖进口。
再说说华为，2019年，华为跨界组建了光刻机研发团队，很多人觉得，华为是做通信设备的，搞光刻机就是“不务正业”，肯定搞不成。
但华为没有在意这些质疑，2023年在上海建了研发中心，投入16.6亿美元，还挖来了前ASML的工程师，一点点逆向攻关。
2025年初，华为真的搞出了EUV原型机，虽然还没有实现量产，但极紫外光已经能稳定运行。
而且华为还找到了一条绕开EUV的路，利用成熟的DUV光刻设备，结合多重曝光技术，实现了更先进制程芯片的制造，这在没有EUV的情况下，已经是很大的突破了。
除此之外，中国还有很多机构和企业，一起参与到光刻机研发中，中科院、上海光机所等几十家机构，从光源到镜片，全链条自主攻关，不依赖国外的技术和零件。
我们没有走ASML“全球整合”的路，因为别人不卖给我们，我们只能自己造，这种“被逼出来”的狠劲，就是中国企业的底气。
不吹不黑
说实话，现在中国的光刻机，和ASML还有差距，ASML的EUV光刻机，能制造7纳米以下的高端芯片。
已经实现大规模量产，而中国的EUV原型机还在试产阶段，预计2026年三季度才能完成量产验证。
有人说，既然还有差距，有什么好骄傲的？其实，我们骄傲的不是现在有多厉害，而是在被封锁、从零起步的情况下，没有放弃，一步步追赶。
ASML有40年的积累，有全球供应链加持，而我们，是在别人的封锁下，自己摸索、自己研发，每一步都走得很艰难，但也很坚定。
现在，中国在光刻机领域的进步越来越快，EUV专利申请量三年增长200%，光源、镜片相关的技术论文数量，位居全球第一。
在封装光刻机领域，上海芯上微装半年就交付了500台，全球市占率达到35%。
28纳米光刻机已经实现量产，能满足汽车、家电、5G基站等领域的芯片需求，而28纳米也是全球芯片市场的“常青树”，占据近三成的市场份额。
那位荷兰专家最后说：“我们曾经以为，垄断就是技术的终点，可中国企业让我们明白，真正的竞争，是让技术回归服务产业的本质。”
其实，中国研发光刻机，不是为了取代ASML，而是为了打破垄断，拥有自己的核心技术，不再被别人“卡脖子”。
今天跟大家说这些，不是为了吹中国有多厉害，而是想告诉大家，中国科技的进步，从来都不是一蹴而就的，是无数工程师日复一日的坚守，是中国企业实打实的投入换来的。
或许我们现在还没有完全追上ASML，但请相信，只要我们一直坚持，不放弃，总有一天，我们会在全球半导体领域，拥有属于自己的话语权。
最后想问大家，你们觉得中国光刻机多久能追上ASML？评论区留下你的看法，一起为中国科技加油。
