来源：市场资讯
（来源：半导体前沿）
-来自彤程，龙图光罩，SEMI，复旦大学，南开大学，暨南大学，苏州实验室，欣奕华，上海光源，中电科48所，安捷伦，湖北菲利华，新维度微纳，卫利等单位的专家将作精彩报告
4月3日消息，据外媒报道，伊朗伊斯兰革命卫队海军司令部发表声明称，对位于迪拜的美国甲骨文公司数据中心以及位于巴林的亚马逊公司数据中心实施了打击！
声明表示，这一行动是为摧毁“暗杀机器”，美国总统特朗普的行为正让美军方付出惨痛代价。
伊朗伊斯兰革命卫队3月31日发布公告说，将中东地区与18家美国信息通信技术和人工智能企业有关的公司机构作为“合法打击目标”，涉及思科、惠普、英特尔、甲骨文、微软等企业。
4月1日，伊朗伊斯兰革命卫队曾发布公告，将包括英伟达等18家美国企业作为打击目标。公告称，4月1日晚8点起，“每当伊朗遭受一次恐怖行动，这些美国公司的相关设施都将遭打击”！
这些美国大型科技企业包括英伟达、苹果、谷歌、Meta和微软，以及惠普、英特尔、IBM和思科等硬件供应商。此外，特斯拉、甲骨文、摩根大通及波音等企业也在名单之列。
伊斯兰革命卫队将上述企业定性为与美国政府相关的情报实体，并称这些公司提供的AI及信息通信技术服务，是美以在伊朗策划“恐怖行动”和锁定暗杀目标的关键工具。
不过对于伊朗的声明，阿联酋迪拜媒体在其社交账号发文，否认伊朗对位于迪拜的甲骨文数据中心发动袭击。目前巴林还未对伊朗声明做出回应。
来源：官方媒体/网络新闻
—论坛信息—
名称：第3届光掩模与光刻胶技术论坛
时间：2026年4月24日
地点：上海
主办方：亚化咨询
—会议背景—
随着半导体工艺节点向2nm及以下推进，下一代光刻技术已成为行业焦点。主要方向包括高数值孔径极紫外（High-NA EUV）光刻、纳米压印光刻、电子束光刻、定向自组装（DSA）和X射线光刻等。这些技术旨在提升分辨率、降低成本并提高产量。2026年，高NA EUV已进入高容量制造阶段，而NIL和X射线光刻作为潜在颠覆者，正加速研发。
进入2026年，中国对高端光掩模的需求持续强劲增长，但技术研发、生产能力及产业链整合方面仍面临高成本、技术复杂性和供应链依赖等诸多挑战。全球半导体光掩模版市场在2018年至2024年间从40.4亿美元增长至51亿美元，年复合增长率达4.0%。预计到2030年，该市场规模将进一步扩大至约80亿美元。亚化咨询研究认为我国2025年第三方掩模版市场规模占比为70%左右，预计2030年中国掩模版市场规模有望达到120亿元。
全球光掩模版市场主要由Photronics、日本凸版(Toppan)和大日本印刷(DNP)三大企业主导，市场占有率超过70%。而在中国市场，路维光电、清溢光电、龙图光罩等本土企业正在不断提升其市场竞争力，并在国产化替代方面取得突破。
亚化咨询预计2026年市场规模有望达到100亿元。在ArF光刻胶领域，国内厂商正在加快研发进程，并取得了核心突破，如南大光电实现ArF光刻胶量产。国内一些光刻胶龙头企业如上海新阳、南大光电、容大感光、广信材料、晶瑞电材等，在光刻胶的研发和生产方面取得了显著进展。据亚化咨询最新行业调研，国内领先的光刻胶新锐企业还包括珠海基石(2022年成立)、国科天骥(2019年成立)等。国内光掩模与光刻胶产业发展正在提速，技术进步成为产业发展的重要推动力。
第3届光掩模与光刻胶技术论坛将于2026年4月24日在上海召开。本次论坛由亚化咨询主办。此次会议将汇聚行业的领军企业、机构的专家，探讨下一代光刻技术发展方向，中国光掩模版与光刻胶产业的技术进展与应用，市场机遇与挑战，和产业发展前景。
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