原标题：鑫图光电亮相深圳光博会，从科学成像到光子测量，新品矩阵引关注
2026年9月9日，深圳光博会（CIOE）如约而至。在熙熙攘攘的展馆中，鑫图光电（Tucsen）的“光立方”展台格外引人注目——深空蓝的色调、沉浸式的空间，仿佛一个来自未来的光子实验室。这里展示的不仅是XT系列光束质量分析仪、Libra 27105高通量大面阵相机等硬核新品，更是一家科学成像企业向光子测量领域拓展的雄心。记者在展会现场采访了鑫图光电品牌总监谭梦溪与产品总监娄锋，试图解读这家企业背后的技术逻辑与创新路径。
“光立方”：把技术哲学装进一个盒子
“这次‘光立方’的出发点，并不是单纯想做一个更吸引眼球的展台，而是希望借这次展会，把鑫图对‘光’的理解更完整地表达出来。”谭梦溪向记者表示。在光电行业，大多数展台习惯于产品陈列，但鑫图想回答一个更本质的问题：作为长期深耕科学成像与光电探测的企业，如何理解光，又如何将这种理解转化为产品和能力？
“光立方”以“看见光、理解光、控制光”为逻辑线，用沉浸式场域串联起生命科学、物理、天文与工业检测四大方向。它不再只是产品陈列的载体，而是围绕“观察—测量—分析”的科学路径展开叙事。“‘光立方’既是展台设计，也是一次品牌表达。”谭梦溪强调，“它代表了鑫图希望以更加整体、更加清晰的方式，对外传递企业形象——我们既关注前沿技术，也更重视把技术真正做成可落地、可交付、可持续演进的产品和解决方案。”
科学成像与工业检测：同源的技术底座
很多人认为科学相机更多应用在科研领域，但鑫图正将其能力大规模导入工业检测。谭梦溪指出：“科学成像与工业检测在底层物理逻辑上完全同构，其核心都是对光子实现精准的绝对定量测量与分析。”无论是科研级极端微弱信号的捕获，还是半导体晶圆检测中的高速缺陷识别，所依赖的底层技术——对读出噪声、暗电流、量子效率、动态范围以及空间均匀性的严谨控制——本质上是同一套高标准的技术方法论。
差异在于应用边界条件：工业场景不仅要求逼近极限的成像指标，更要求将这种指标固化为极高确定性的工程能力。鑫图进入工业成像领域，是将科学级的光电测控底座与工业级应用场景深度重组。尤其在半导体检测等严苛赛道，鑫图的TDI等方案已通过长期的量产机台验证。针对工业客户的核心诉求，鑫图构建了批产交付平台与高可靠性标准化品控两大体系。
Libra 27105：不只是一台相机，而是综合优化方案
在工业检测赛道，鑫图发布了Libra 27105高通量大面阵相机。娄锋向记者详细解读了该产品的定位：“它瞄准的是当前行业一个非常典型的需求：在更大视野、更高分辨率和更高检测效率之间取得平衡。”
随着先进封装、晶圆检测、表面量测、微缺陷识别等应用升级，客户需要既看得大、看得细，又要求速度快、输出稳定、便于集成。“单纯提升某一项指标并不能真正解决问题，工业现场最终考验的是整机效率、稳定性和可复制性。”Libra 27105采用1.05亿像素面阵传感器，兼顾大靶面、高分辨率、高速输出与数据稳定性，其核心价值在于围绕工业现场需求做的综合优化。娄锋表示：“这款产品的意义还不只是推出了一台新相机，更重要的是，它体现了我们把科学级成像能力工程化、产业化导入工业场景的能力。”
XT系列：从“看见”到“测准”的跨越
另一款重磅新品——XT系列光束质量分析仪，则是鑫图从科学成像延展到高精度光学测量的关键一步。娄锋将其定位为“面向半导体制造、激光精密加工、光学系统校准等需求，提供从光束信息采集、分析到定量评价的一体化解决方案”。
“如果说科学相机更多解决的是‘信号看见’的问题，那么XT系列更进一步，解决的是‘如何把光测准、看懂、用好’的问题。”XT系列依托宽光谱传感适配、高精度光机设计、定量分析算法与校准体系，能够精准测量光功率、能量分布、光斑形貌等关键参数。其差异化在于：平台化能力的延伸、采集分析评价一体化带来的高效率，以及凭借工程集成能力可进入真实产业场景成为可交付模块。目前，该系列主要面向半导体制造、激光精密加工等对光束质量一致性要求极高的行业。
持续创新，稳定交付
除了上述新品，鑫图还推荐了Aries 6504系列（单光子级高速、读出噪声低至0.43e-）和Libra 5505等，构成了从极限探测到高通量检测的完整布局。支撑这些产品的，是鑫图超过1万平方米的制造基地、百级/千级洁净车间、AFM快速柔性制造线，以及覆盖生产、测试及质量控制的标准化体系。产品出厂前需经十余项可靠性测试，多维度验证稳定性。
在深圳光博会上，鑫图光电呈现的不只是单一的产品创新，更是企业长期技术积累、平台建设、工程定制与稳定交付能力的系统释放。未来，鑫图将继续以科学成像为根基、平台能力为支撑，向更高性能、更广应用与更深产业协同方向迈进。对于科技爱好者与产业观察者而言，“光立方”里的那道光，或许正是光电科技下一个十年的缩影。
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