技术封锁阻挡中国发展？中国9纳米光刻机问世，打破西方技术壁垒。

目前，随着科技的不断发展，电子行业每时每刻都在进步，逐渐的走进了我们的生活，不仅是在我们的生活当中，电子产品是不可缺少的，就是在武器上面，电子优异也显得非常重要，但是不同的是，想要电子设备更加强大，都取决于电子芯片强大，但是在这个芯片方面，我们同世界前列还有一段非常大的距离需要我们去努力。

然而近日从武汉方面传来了一个喜讯，我国武汉光电中心的甘棕松团队在完全自主研发的光刻机上成功的实现了9纳米线段的光刻研究，可谓是另谋出路，冲破了西方国家的技术束缚。

光刻机又被称之为曝光系统光刻系统，是当前人类文明的顶尖科技之一，它主要的用途就是用来进行芯片的制造，迄今为止任何一项顶级芯片都必须要有一个非常顶尖的光刻机才能够制造出来，而不得不承认的是，美国等发达国家在这方面一直以来都做得非常的出色，中国在这一领域可谓是一直以来都是受制于他人。

要知道，能够生产光刻机等相关技术，一直都是被国外荷兰ASML被公司掌控，而我们想要购买这种机器可谓是困难重重，就在去年还发生了一起中国企业采购一块最新的光刻机，就在最后的交货期间，荷兰加工光刻机的车间意外着火了。

面对西方的分数，我们制造出属于我们自己的光刻机已经刻不容缓。但是面对专利和技术上的封锁，我们想要制造出属于自己的光刻机，就不能和这些专利重叠，为此，想要自主研发这其中的困难不是一般的大，这是因为光刻机的每个部件都可以说是科技含量非常高的，其研发的难度甚至超过了航空所使用的发动机。

制造光科技的专家团队表示传统的制造高科技的方式，完全无法实现高精度的光刻机，因此他们只能通过其他的方法来制造出属于我们中国自己的光刻机，虽然目前距离工业化生产还有很长的一段时间，但是这无疑是一个很好的开始，这也给西方国家敲响了警钟，单纯的技术封锁是无法阻挡中国发展的。

相信只要我们努力在未来，任凭西方国家怎么封锁，我们能都游刃有余，对此你怎么看呢？欢迎留言探讨！