在回答这个问题之前,我引用了前两天,有个朋友问我说:“光刻机不就是刻录CD的机器啊,华为能造不出来吗?”。从这个疑问中看来,还有很多人并不知道制造芯片的光刻机是怎么回事?

首先,我们来说说什么是光盘的刻录机?

说实话,这光盘的写入也是一种光刻设备,用镭射光读取盘片上的不同凹坑(PIT & LAND),由于反射的角度与 时间不同,判断0或1的数据。CD-R(一次写入多次读取)是在普通的CD盘片中加了一层染色层,光盘刻录机的镭射头所发出的光束强度可以随时变化,这样就能改变碟片染料层的状态。镭射光根据数据的不同,在空白的CD盘片上烧出可供读取的的反光点,数据也就被记录。CD-RW(多次写入多次读取)的原理与CD-R基本相同,只是染色层变成可改写的,不象CD-R用烧制这种破坏性办法。利用染料层的结晶/非结晶过程是一可逆反应,实现碟片内的资料可以反复擦写。但是由于染色层是相变的,它的反光讯号只有普通CD的20%,所以CD-RW不是什么CD-ROM驱动器都可以读的,不过将来的CD-ROM驱动器肯定可以读取CD-RW盘片。

二、什么是芯片光刻机?

简单来说,光刻机是用来制造芯片的,比如手机处理器、电脑CPU、内存、闪存等,可以说半导体离不开光刻机。

目前,最先进的EUV(极紫外光)光刻机全球仅有荷兰的ASML能生产,集成了全球最先进的技术,90%的关键设备均自外来,德国的光学技术设备、美国的计量设备和光源设备、瑞典的轴承,ASML要做的就是精确控制调试与组装。

当然,这些精密的设备与配件,对我国是禁运的,当然对于它们利益集团外的国家都是禁运的,但从另一个角度上说,也反映了我国在精密制造领域与西方先进国家还存在着明显的差异。可以说,只要你哪个领域不研发出来,它们对你都是禁运的,这可能也是商业利益的表现吧,科学不可能没有国界的,科技的背后都是一种利益的体现。

三、有人说有钱也买不到光刻机?

既然无法生产最先进的光刻机,那么可以从ASML那里买到吗?其实这个是可以买到光刻机,但肯定不会给你最先进的,如果你国内能研发出来90纳米,它马上卖给你80纳米的,如果你研发出来14纳米的,它肯定卖给你12纳米的,这个是一种技术封锁,也是一种商业利益,永远压制你,目的让你的竟争力达到它们的水平,就算是高端的也卖给你,但不会马上交货,会用各种原因来拖,直到变成落后的了再给你,比如中芯国际花了1.2亿美元订了一台7纳米的光刻机,至今也没有交货,原因就是上述的问题,所以,你不想落后,就必须举国之力来研发它,只有大家在同一个水平线上,才有真正的竟争与公平。比如我们的北斗卫星导航,以前我们没有的时候就吃过亏,我们的导弹直接瞎了眼。

四、目前我国的光刻机生产技术水平

目前,我国生产光刻机的厂家有上海微电子、中电科技等,但是制程工艺相对较低。上海微电子(SMEE)是国内最领先的光刻机研制单位,能够稳定量产90nm的光刻机,而且是DUV光刻机,EUV光刻机的技术是空白,距离荷兰ASML的7nm工艺还很远,目前ASML已经量产5nm工艺的光刻机了,差距不是一点半点的。

总之,我国生产的光刻机与世界先进水平有很大的差距,因为西方技术封锁造成等很多原因,也无法买到最先进的EUV光刻机。这也是很现实的,所以,只有掌握核心技术,与人家站在同一水平线上,才能真正不会被“卡脖子”,才有真正的说话权。

五、那么华为有没有能力研发光刻机呢?

这个问题其实真的有点民粹的意思,不能任何事情都寄托在一家民企身上,华为一家企业也撑不起中华崛起的重任,华为如果真有能力研究光刻机的话,也不会找台积电代工生产芯片了,那可以象英物尔一样自己生产芯片了。

1、首先来看看ASML的发展史:

荷兰的ASML这么成功,那是历史的机遇,也是列强对抗日本半导体技术的一场战疫,当时,光刻技术主要掌握在日本尼康与佳能手中,在80年代未,打败了美国的三大光刻机公司GCA、SVGL等三大公司。

当时的ASML也是一个小公司,是飞利浦下的一个合资小公司,再看ASML的基础并不好。从1984年诞生后的20年,ASML就一直是一个谜一样的存在,没有什么人会觉得ASML能够有什么未来,甚至包括他们自己。早期ASML还叫做ASM,生存无望只能四处认干爹,最终只有飞利浦动了恻隐之心,在总部大厦旁边垃圾桶旁的空地上给ASML弄了几个简易厂房,房地产工地上的那种。最可悲的是,飞利浦本也没打算给什么钱,ASML除了要饭没干过,基本上上门推销、蹲点、抢单,反正你能想象到的销售手段ASML全都用过,能活20年全靠日积月累出来的“销售手艺”。

苦苦支撑20年,ASML终于等待了他们第一个贵人——台积电鬼才林本坚,一个可以比肩张忠谋的人物。如果说张忠谋缔造了台积电的前20年,林本坚就为台积电的后二十年挣下了巨大的家当。林本坚1942年出生于越南,中国台湾人,祖籍广东潮汕。林本坚1970年获得美国俄亥俄州立大学电机工程博士学位,2008年当选美国国家工程学院院士。在加入台积电之前,林本坚在IBM从事成像技术的研发长达22年,是当时世界无二的顶级微影专家。2000年,林本坚在当时台积电研发长蒋尚义的邀请下加入台积电,开启了真正“彪悍的人生”。在IBM最后几年,林本坚其实已经看到了傲慢的IBM在微影领域的大厦将倾。他希望IBM能够给予他当时微影部门所研发的X光光刻技术1/10的经费,用来“做点东西”,然而IBM因为其华人的身份,并不打算买账。于是在众多人陷入X光光刻技术无法自拔的时候,林本坚义无反顾地投入了浸润式光刻技术的研究中。终于在2002年,已经加入台积电的他研究出以水作为介质的193纳米浸润式光刻技术。也就是在2002年,冥冥之中宣告了过往干式光刻机的死刑。浸润式光刻技术让摩尔定律继续延伸,后来台积电也因此领先竞争对手超过5年。林本坚的浸润式光刻,几乎被尼康、佳能、IBM等所有巨头封杀,尼康甚至向台积电施压,要求雪藏林本坚。

当时尼康拒绝了台积电的林本坚的建议采用浸润式光刻机,而半死不活的ASML敏锐的看到了其中蕴藏的巨大机会,历史注定ASML会和林本坚合作。ASML如果选择浸润式技术,不仅可以获得台积电的巨大订单,也能够和台积电建立起危难中的“革命友谊”。命运倒向了浸润式光刻技术。2004年,ASML和台积电共同研发出第一台浸润式微影机,优秀的性能和稳定的技术,让阿斯麦的产品全面碾压尼康。尼康只用了5年时间,就失去了50%以上的份额,沦为一个不入流的厂商。尼康因为一步错,把整个日本半导体拖慢了3代。

这种情况也发生在格罗方德身上。当年格罗方德选择了FD-SOI工艺被彻底采用FinFET工艺的台积电甩出十条大街,最终不得不放弃7nm工艺的研发。

Intel为了推动摩尔定律在未来几十年继续有效,联合美国能源部,拉了AMD、摩托罗拉等搞了一个前沿组织EUV LLC,成员甚至包括当时美国劳伦斯利弗莫尔、劳伦斯伯克利和桑迪亚三大国家级实验室。这是当时的业内最顶级组织。ASML和尼康自然看在眼里心心念念,然而诡异的是:最终ASML以一粒“尘埃”的角色加入了组织,而尼康却因为“过于强大”被美国忌惮而被剔除在外。日本第一次被“牺牲”,也为之后被彻底抛弃埋下了隐患。ASML第一次靠自己强大的“游说能力”受益。2003年,EUV组织的几百位科学家在发表了大量的论文,论证了EUV可行性之后,组织光荣解散。此后,尘埃ASML就像一个努力的学生,在打赢了浸润式战役之后就投入到了EUV的研发中。2012年10月17日,美国政府没有经受住ASML持续的忽悠,在ASML“承诺”了一大堆有的没用的条件后,最终同意了ASML收购Cymer——一家顶级光源企业。2015年,ASML经过10年的研发,终于将EUV弄到了可量产的状态。

2012年7月10日,Intel购入ASML合计15%股权,并出资10亿美元支持ASML的研发。同年的8月5日,台积电宣布加入ASML提出的“客户联合投资专案”,以8.38亿欧元获得了ASML合计5%的股权,并承诺未来5年投入2.76亿欧元支持ASML的研发。紧接着在8月27日,三星以5.03亿欧元获得了ASML共计3%的股权,并额外注入2.75亿欧元支持ASML的研发计划。ASML终于成功将三星、英特尔、台积电等等企业“拉到了它的阵营”,甚至可以毫不夸张的话,荷兰的阿麦斯从来都不是一个孤零零的企业,它是全球半导体巨头的整合体,也是全球科技智慧的结晶!当时,这里面却没有中国。

到目前为止,EUV完全被ASML垄断,美国人原本担心的技术流向尼康和ASML,以另一种更荒诞的情况结束了。阿斯麦垄断,2015年后,ASML再无对手。

另外还有一个插曲:ASML的强大,让美国人坐卧不安。这是可以理解的,美国人总是有受迫害妄想症,总觉得刁难想害他。

为了遏制ASML的一家独大,美国的一些半导体公司,包括Intel、IBM、三星,都有意扶持XTAL,一家在2014年成立于硅谷的光刻机厂商。

2018年,ASML以侵占知识产权为由,起诉XTAL,最终胜诉并在2019年5月获得了8.45亿美金的赔偿。虽然XTAL公司此前已经破产,但最终ASML还是轻松获得了XTAL的大部分资产。

这一次,干掉竞争对手ASML只花了一些律师费。

可以说ASML的成功,得益于自己的远见,更要得益于美国政客的“愚蠢”和尼康的傲慢。

2、一台光刻机的复杂程度

我们对于光刻机的了解,可能在于它是生产芯片中的重要一环。但是,它到底怎么制造,到底有什么技术难度呢?这里面我们可以了解下。

EUV的核心技术集中在三大领域:顶级的光源(激光系统)、高精度的镜头(物镜系统)、精密仪器制造技术(工作台)。

其中镜头被德国的蔡司垄断、顶级的光源来自于2012年收购的美国企业Cymer、精密仪器制造技术也来源于德国。ASML只掌握了不到10%的核心技术。

ASML是集大成者,8000个核心零部件都需要由ASML集成。ASML是全球化的巨大受益者, ASML背后是美国、日本、欧洲、中国台湾、韩国技术支撑,最终才能生产出极度复杂的EUV。

到这里,能够看到半导体产业的精髓:全球化的分工和人类的通力合作。每个核心国家都有“一票否决权”,任何一环的断裂,都意味着整个链条的崩塌。因为制衡,所以稳定。

一台光刻机中有太多内容了,从测量台、曝光台,到激光器、光束矫正器、能量控制器、光束形状设置、遮光器、掩膜版、掩膜台等等多项内容。

在这些零部件的组合下,光刻机需要通过将光束透射过画着线路图的掩模,并且将线路图映射到硅片上,在经过过清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、激光刻蚀等等。

而为了能够形成对于芯片的光刻,并且不断挑战摩尔定律,ASML需要不断的加强,对于光科技技术的提升。也正是因为在技术方面的提升,它需要向德国蔡司提供的镜头,也需要美国公司供应的光源……

可以说,ASML光刻机真正地体验了全球化大生产的功绩。而,这些恰恰是华为目前所欠缺的,因为美国的一些阻止,很多企业放弃了和华为的合作,而在这种情况下,华为想做到光刻机,它就必须要自给自足,然而所需要投入的人力财力,远远大于我们的想象。

3、阻止,不会催生新的竞争对手

对于荷兰阿麦斯来说,是不愿意去是催生新的竞争对手,为什么将三星、海力士、英特尔等公司拉入到自己公司中,成为阿麦斯的股东之一,除了获得先进的技术支持之外,还有一个最关键的因素是不想让其他的企业成为阿麦斯的竞争对手。

其实我们知道像佳能、尼康,这些企业都是目前在光刻机领域有所研究的企业,为什么绝大多数的市场特别是高端市场,还是被阿麦斯给占据呢?我们可以说不能忽略阿麦斯的这种集合众家之长的企业经营方式,把所有潜在的客户集合在自己手中,当然除了中国之外。

因为1996年7月,以西方为主的33个国家在维也纳签署了《瓦森纳协定》,来控制军品和军民两用商品和技术的出口,中国、朝鲜、伊朗在被禁运之列。《瓦森纳协定》其中就有半导体产业这块问题,我们被以美国为首的西方国家,进行技术出口管制,让我们的光刻机发展更为困难!

4、华为,不需要光刻机

光刻机虽然重要,但是对于华为来说并不是主要的业务。华为主要的业务是运营商业务和消费者业务,这是它的重点,华为没有必要从基础开始,进行光刻机的研究,且不说所需要投入巨大的人力财力,关键是已经在技术上落后先进的技术,即使华为想去研究,也需要花费很长的时间。

而对于我国来说,上海微电子目前生产的90nm光刻机,和已经在发售的ASML 5nm EUV光科技有着巨大的差距,更不用说,它们已经在研究4nm,3nm,2nm工艺……

之前有消息称,武汉光电国家研究中心的甘宗松团队,成功研发利用二束激光,生产9nm工艺制程的光刻机。当然,这件事到底成分多少,我们只能期待,其实未来中国光科技的发展一定要另辟蹊径,比如发展碳基芯片,光子芯片等,可能是真正划时代,就如我们的汽车行业,我们直接跳到电动汽车上,至少现在我们还不落后。

在这里我也相信我们齐心协力就一定能够解决光刻机的束缚,虽然说华为不可能去生产光刻机,但是有很多默默无闻的企业正在不断前行。我们能够在光刻机领域有所作为,这不但是肯定的,也是一定的。