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光刻机有多难造？

华为、苹果、三星都已经发布了各自的5nm产品，华为的麒麟9000，苹果的A14，还有三星的Exynos 1080。这三款芯片是目前世界上已经发布亮相的5nm芯片。

5nm芯片能否制造出来取决于光刻机设备，到了5nm层次的制造工艺，就必须使用EUV光刻机，而且使用EUV光刻机也不一定能确保制造出来的芯片是完美的。还必须搭配相应的制程技术使用才行。

否则让一个只具备14nm工艺制程的企业，去操作EUV光刻机制造5nm芯片，根本不可能。制程技术和设备缺一不可，掌握5nm制程技术的有台积电和三星，但是能生产EUV光刻机的却只有ASML这一家企业。

因为掌握了EUV光刻机的制造能力，足以让ASML有骄傲的资本。甚至扬言，就算图纸公开，你们也造不出光刻机。

那么光刻机有多难造呢？据资料显示，一台光刻机包含了13个分系统，3万个机械件，以及200多个传感器。有工程师说，光刻机上的一个小零件就需要调整十年时间，尺寸的调整要达到上百万次。

想要保证光刻机的正常运行，每一个生产运行的步骤都要保证成功率高于99.99%。制造光刻机如此困难，难怪传言有图纸也造不出，但中国用行动证明了实力。

用行动证明实力

我国也有自己的光刻机设备制造商，它就是上海微电子。

上海微电子是国内最先进的光刻机设备制造企业，在上海微电子的努力自研下，终于将自主研发的22nm光刻机成功亮相。

据了解，上海微电子借助紫外线光源实现了22nm分辨率，尽管距离ASML的5nm还有一定的差距，但是从低端到中端，再从中端到高端，是需要一个过程的。

就算是ASML实现EUV光刻机设备制造，同样花了几十年来调整设备，才能有如今的成绩。

上海微电子用行动证明了实力，其实中国在高端光刻机制造上，是具备了相应的水准的。

比如光刻机设备供应商华卓精科提供的双工件台打破了ASML的垄断，在核心子系统上，有了一席之地。还有中科院在5nm激光光刻技术上也取得了突破进展。再加上此次上海微电子的22nm分辨率光刻机，距离未来实现中高端光刻机生产，又更近了一步。

对光刻机，半导体的布局

ASML一直想要给中国出货光刻机，但是高端EUV光刻机供不应求，还有相关的规则限制，导致EUV光刻机无法顺利出货给国内企业。

所以ASML一直在极力推销能够生产7nm的DUV光刻机，多次表态要加快在国内市场的布局，并保持开放合作。

但是我们想要有自己的高端光刻机产品，只能依赖自己。在光刻机和半导体的布局上我们已经在不断加速。

比如在光刻机方面，中科院宣布要入局攻克相关技术难题，有了中科院的入局，国家的支持，再难的光刻机技术都一定能突破。半导体的布局更是放在了人才培养，企业扶持方面。

首先是将集成电路列为一级学科，其次是成立南京集成电路大学。企业扶持最高给予免税十年的待遇。通过培养的人才，引入到企业里，为国产光刻机，半导体事业增添助力。

总结

ASML生产的高端光刻机其实运用了很多国外技术，90%以上的先进零部件都来自欧美国家，比如蔡司镜头是德国的，光源设备是美国的，包括台积电和三星也向ASML提供了制程技术。

光刻机制造难度之大非同寻常，正因为如此，我们才要不断突破，取得更大的成就。这是必须要做的事情，哪怕五年，十年都值得付出。