氮化硅在半导体中的应用

氮化硅粉的主要用途:根据不同领域的应用要求,开发了一系列不同等级的氮化硅粉产品,广泛应用于高科技结构陶瓷、各种耐磨材料、耐火材料等领域。在冶金领域。氮化硅材料作为一种新型耐火材料,应用于冶金炉体、炉口密封、炼铁炉出水口、铁钩非晶材料、炼钢行业的氮添加剂等。

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图片由杭州海合精密陶瓷提供

氮化硅陶瓷特点

Si3N4是以共价键为主的化合物,键强大,键的方向性强,结构中缺陷的形成和迁移需要的能量大,即缺陷扩散系数低(缺点),难以烧结,其中共价键Si-N成分为70%,离子键为30%,同时由于Si3N4本身结构不够致密,从而为提高性能需要添加少量氧化物烧结助剂,通过液相烧结使其致密化。
根据材料的腐蚀机理。提高氮化硅材料的抗腐蚀性可以从以下个方面考虑,增加材料的致密性可以考虑改善材料的制备工艺,如加入添加剂提高材料的致密度。
氮化硅陶瓷在1285℃ 时氮化硅与二氮化三钙Ca3N2发生以下反应:Ca3N2+Si3N4─→3CaSiN2氮化硅的制法有以下几种: 在1300~1400℃时将粉状硅与氮气反应; 在1500℃时将纯硅与氨作用;在含少量氢气的氮气中灼烧二氧化硅和碳的混合物;将SiCl4的氨解产物Si(NH2)4完全热分解。

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体积密度:3.1-3.3,抗弯强度:600-800MPa,外观颜色:黑灰色,产品纯度:99.9%

制造商:海合氮化硅,特性:半导体陶瓷,微观结构:单晶与玻璃相,形状:方形

功能:铆接用陶瓷,产品参数:φ85*20*15MM,价格:55元/件,产地:陕西延安市

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氮化硅陶瓷工艺

氮化硅陶瓷(Si3N4)综合性能十分优异:不但具有高比强、高比模等优越的力学性能,还具有耐高温、耐化学腐蚀、良好的耐热冲击性以及高耐氧化性它主要应用于机械,冶金,电子,半导体等行业。

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高纯纳米级氮化硅粉体

产品纯度:99.99%以上

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干压成型,等静压成型

根据产品的外形和尺寸不同,采用不同工艺,确保产品质量

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根据用户需求选择合理工艺

可提供反应烧结,常压烧结,气压烧结,热压烧结等不同工艺方法制备的产品

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尺寸精度:最高可达0.003㎜
光洁度:最高可达Ra0.03
同心度:最高可达0.003㎜
行度度:最高可达0.003㎜
内孔:最小可加工0.04㎜
直槽:最窄可加工0.1㎜
厚度尺寸:最小可加工0.1㎜
螺纹:最小可加工内螺纹M2,外螺纹不限

氮化硅陶瓷精密结构件生产定制专家

非标准瓷器零部件加工精度高,外圆尺寸公差0/-0.02(基本尺寸公差,可接纳订制尺寸公差,例如-0.02/-0.05等);加工订单,更快一个工作日送货。

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产品精准检测,符合图纸要求

我们有超10年氮化硅陶瓷行业生产加工经验,陶瓷产品加工价格低,可把零散的定制化加工转换为批量化的操作,大大降低成本。我们可以做到定制化加工领域的高性价比。

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包装运输确保产品安全送达

陶瓷材料属于硬脆材料,安全可靠的包装是产品流通的最后一道环节

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