金融界2024年1月19日消息，据国家知识产权局公告，江苏微导纳米科技股份有限公司申请一项名为“一种原子层沉积工艺的镀膜方法“，公开号CN117418215A，申请日期为2023年10月。

专利摘要显示，本发明提供了一种原子层沉积工艺的镀膜方法，将至少一次常规的惰性气体吹扫工序改进为第一次惰性气体吹扫、抽真空处理和第二次惰性气体吹扫的组合模式，并且在抽真空处理时停止向反应室通入惰性气体，保证反应室内未反应的工艺气体和生成物可以更加快速的排出反应室，缩短吹扫工序的吹扫时间并提高吹扫效果，进而缩短总工艺时间，同时避免残留的工艺气体等发生反应的风险，实现更高质量的镀膜沉积；并且在抽真空处理后的第二次惰性气体的吹扫在将剩余未反应的工艺气体和生成物完全排出反应室的同时，还可以保证反应室内形成一个稳定的由惰性气体形成的气流环境，使反应室的气流和压力都处于一个稳定的状态，以此综合实现更高质量的镀膜沉积。

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