职位信息
项目介绍:
过去几年中,极紫外(EUV)光刻技术成功实现了商业化,使具有复杂结构和特征的更小、更强大的微芯片得以大规模生产。
与此同时,基于极紫外光的计量学最近也成为最有前途的技术之一,以应对下一代纳米和量子设备带来的计量挑战,以及材料科学、生物分析、医学等领域日益增长的表征需求。最新进展表明,超紫外纳米计量学具有独特的优势,可以填补目前纳米计量学的许多空白。本项目旨在利用飞秒激光器和基于高次谐波发生器(HHG)的超紫外源模块和成像室,建立一个台式超紫外纳米计量学研究系统,以提高扫描效率和吞吐量。
研究领域:
计量学、相干衍射成像、层析成像、纳米光子学、精密工程。
申请要求:
- 光电子学、应用物理学、光子学、电子电气工程、机电一体化、计算机工程及相关专业;
- 优秀的光电实验动手能力;
- 优秀的编程技能,如 MATLAB、Python 或 C++;
- 良好的英语沟通能力;
- 善于团队合作与协作。
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