金融界2024年4月25日消息，据国家知识产权局公告，上海和辉光电股份有限公司取得一项名为“一种阵列基板和显示装置“的专利，授权公告号CN220829962U，申请日期为2023年9月。

专利摘要显示，该实用新型实施例公开了一种阵列基板和显示装置，该阵列基板包括：衬底以及在衬底一侧的至少一个多晶硅薄膜晶体管和至少一个氧化物薄膜晶体管；多晶硅薄膜晶体管包括第一源极和第一漏极；至少一个多晶硅薄膜晶体管的第一源极和第一漏极不同层；氧化物薄膜晶体管包括第二源极和第二漏极；至少一个多晶硅薄膜晶体管的第一电极与至少一个氧化物薄膜晶体管的第二电极同层且电连接，其中，第一电极包括第一源极或第一漏极，第二电极包括第二源极或第二漏极。本实用新型实施例可以减少阵列基板的膜层结构，优化膜层的布局结构。

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