中国台湾媒体18日报道，世界最大代工（半导体受托生产）企业中国台湾台积电的会长秘密访问了荷兰半导体设备企业ASML，讨论了购买新一代极紫外线（EUV）光刻机。

一位消息人士表示，台积电总裁今年5月来到ASML，事实上已经确定购买尖端EUV光刻机设备“High New Merical After（NA）EUV”。

据该消息人士透露，相关设备将于今年秋天左右安装在中国台湾北部新州台积电的12 Fab（fab，半导体生产工厂）研发中心，并投入“A10技术”研发。

“A10技术”是指新一代1nm（纳米，十亿分之一米）相关工艺。

ASML是一家独家生产最尖端半导体量产所需的EUV光刻机的企业。

作为半导体前工艺之一的露光工艺是在晶片上印刷微小而复杂的电子电路的过程。

ASML的EUV无光场比，光的波长比现有设备短，利用它可以制作更细微的半导体电路。特别是被认为是7纳米以下半导体超微工程的必备设备。

据另一位消息人士透露，台积电董事长今年5月在没有参加其台北技术研讨会的情况下，访问了ASML和德国工业激光企业TRUMPF。

但相关消息人士补充说，当时台积电和ASML之间的High NA EUV购买价格谈判失败，但双方在将研发合作场所从荷兰转移到新股台积电方面取得了一定进展。

两位消息人士透露的台积电购买Hi NA EUV的情况略有差异。

此前，中国台湾媒体曾报道称，台积电为扩大2纳米半导体等最尖端工程的研发等，明年的资本支出（设备投资）规模最多将扩大到约2000亿元人民币。

纳米是指半导体电路线宽的单位，线宽越窄，功耗越小，处理速度越快。目前世界上最先进的量产技术是3纳米。

专家们评价说，在2纳米领域，台积电占据了大部分优势。