兴启航取得一种二氧化硅薄膜的高压磁控溅射设备专利 金融界 2024-11-21 16:59 ·北京 金融界2024年11月21日消息,国家知识产权局信息显示,江苏兴启航新材料科技有限公司取得一项名为“一种二氧化硅薄膜的高压磁控溅射设备”的专利,授权公告号 CN 118516643 B,申请日期为2024年5月。本文源自:金融界作者:情报员
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