金融界2024年11月29日消息，国家知识产权局信息显示，上海芯立电子科技有限公司取得一项名为“一种溅射台用溅射腔”的专利，授权公告号 CN 222064650 U，申请日期为2023年12月。

专利摘要显示，本实用新型提供一种溅射台用溅射腔，涉及溅射台技术领域，包括溅射腔罐体，所述溅射腔罐体的内底部设置有转台，所述转台的顶部靠近中间的位置固定安装有安装架，所述安装架的内壁之间设置有第二转轴。本实用新型中，通过启动电机，可以带动转台进行转动，同时，靠近转台边缘位置的从动齿轮和内齿圈啮合后，也发生旋转运动，从动齿轮在转动时，带动第二锥齿轮进行同步旋转，通过第二锥齿轮和第一锥齿轮啮合，可以带动第二转轴和第二带轮同步转动，配合第一传动带可以带动两个第一带轮和第一转轴进行转动，从而使得固定板上的基片可以进行垂直方向翻转，提高了基片溅射沉积的均匀性，同时也可以对基片另一面进出溅射沉积。

本文源自：金融界

作者：情报员