金融界2025年1月14日消息，国家知识产权局信息显示，拓荆科技（上海）有限公司申请一项名为“反应腔、薄膜厚度一致性监测方法、薄膜沉积设备”的专利，公开号CN 119287344 A，申请日期为2024年10月。

专利摘要显示，本发明公开了一种反应腔、薄膜厚度一致性监测方法、薄膜沉积设备，该反应腔包括：第一腔体、第二腔体、抽气口、第一膜厚传感器和第二膜厚传感器，所述抽气口设于所述第一腔体与所述第二腔体的中间，所述第一膜厚传感器设于所述第一腔体中且邻近所述抽气口，所述第二膜厚传感器设于所述第二腔体中且邻近所述抽气口。该方法包括：获取第一膜厚传感器检测的第一薄膜厚度和第二膜厚传感器检测的第二薄膜厚度；将所述第一薄膜厚度与所述第二薄膜厚度进行比较以确定所述第一薄膜厚度与所述第二薄膜厚度之间的膜厚差值。通过本申请实现了两腔成膜厚度的实时在线监测，极大地节省了测量的时间，加快工艺开发进度，辅助提高两腔薄膜厚度表现的一致性。

天眼查资料显示，拓荆科技（上海）有限公司，成立于2020年，位于上海市，是一家以从事科技推广和应用服务业为主的企业。企业注册资本135253.79万人民币，实缴资本95253.78万人民币。通过天眼查大数据分析，拓荆科技（上海）有限公司参与招投标项目19次，知识产权方面有商标信息1条，专利信息198条，此外企业还拥有行政许可9个。

本文源自：金融界

作者：情报员