25000:1 动态范围 / 小于 1nm 分辨率 / 超过 10000h 验证

ZURO 系列光纤光谱仪针对集成电路制造工艺设备研发，能在半导体 Fab 环境下长期稳定工作。包含 ZURO-ND 和 ZURO-SM 共 2 款型号产品，适用于不同场景下的刻蚀、去胶、镀膜等工艺的监控。同时，光谱仪可配备 ideaEPD 工业软件，为客户提供全面的刻蚀终点检测解决方案。

典型应用领域：

栅极工艺：栅极工艺的多晶硅刻蚀，需要一套高灵敏、高信噪比和大动态范围的光谱仪。
沟槽工艺：IGBT 器件刻蚀要控制深度，需要 in-situ 刻蚀深度监控方案，提高良率。
博世工艺：MEMS 器件加工中，刻蚀与钝化工艺反复交替进行，需要较为强大的复杂过程监控算法。
去胶工艺：Wafer 图形化后去胶，需要多套联用和高通量清洗方案，降低客户 COO 成本。

ZURO 光谱仪 具有以下显著特点：

1，小于 1nm 光学分辨率：ZURO 系列光谱仪采用特殊光路设计，实现较高光学分辨率，能区分间隔相邻的谱线，满足客户的大部分工业监控需求；

2，25000:1 大动态范围：ZURO 系列光谱仪采用了复享光学研发的信号调制方法能获得较大动态范围，实现客户在高强度辉光下测到微弱信号谱线的苛刻要求；

3，超过 10000 小时长期验证：ZURO 系列光谱仪经过半导体厂商长期测试，不掉线且数据稳定，保障客户稳定在线生产；

4，宽波段等离子体谱分析：ZURO 系列光谱仪探测器响应波段覆盖 200~1100nm，安装定制滤光片，保证客户在复杂等离子体信号中能获得正确与真实的元素特征光谱信号，消除虚假特征信号。

此外，复享光学深入半导体设备厂商应用，研制用于刻蚀终点检测行业软件 ideaEPD，实现多达 10 腔同时采样监控、自定义终点判断算法、历史数据再查询等功能，并可提供 SDK 开发包，兼容 MES 系统。

具体产品参数信息请访问：www.ideaoptics.com