金融界2025年1月23日消息，国家知识产权局信息显示，福建泓光半导体材料有限公司申请一项名为“一种含硅底部抗反射涂层组合物及其制备方法与应用”的专利，公开号CN 119331250 A，申请日期为2024年11月。

专利摘要显示，本发明属于光刻材料技术领域，具体涉及一种含硅底部抗反射涂层组合物及其制备方法与应用。所述含硅底部抗反射涂层组合物至少含有聚合物A和聚合物B；所述聚合物A含有衍生自如式(1)所示第一单体的结构单元一以及任选的衍生自如式(2)所示第二单体的结构单元二和任选的衍生自如式(3)所示第三单体的结构单元三；所述聚合物B含有衍生自如式(4)所示第四单体的结构单元四以及任选的衍生自如式(5)所示第五单体的结构单元五。本发明的关键在于将具有特定结构的聚合物A与聚合物B引入底部抗反射涂层组合物中，由于氰基和氟基之间的共同作用，使得所形成的抗反射膜与光刻胶表面的粘附性良好，显影后的光刻胶图案不易倒塌、形成效果好。

天眼查资料显示，福建泓光半导体材料有限公司，成立于2019年，位于漳州市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本25000万人民币，实缴资本22150万人民币。通过天眼查大数据分析，福建泓光半导体材料有限公司参与招投标项目23次，知识产权方面有商标信息10条，专利信息38条，此外企业还拥有行政许可31个。

本文源自：金融界

作者：情报员