金融界2025年5月20日消息，国家知识产权局信息显示，芯恩（青岛）集成电路有限公司取得一项名为“原子层沉积设备及半导体设备”的专利，授权公告号CN222878081U，申请日期为2024年06月。

专利摘要显示，本实用新型提供一种原子层沉积设备及半导体设备。其中，在所述原子层沉积设备及半导体设备中均设置有特斯拉阀。且所述特斯拉阀设置于输入管道和输出管道上，以利用所述特斯拉阀的单向流动特性，实现前驱气体依次经所述输入管道、所述反应腔室和所述输出管道的单向流动，有效避免因气体反流而导致的管路污染问题。同时，还能够在加热带温度变化区域增加输入管道的小角度变向次数，使加热气体充分混气，有利于精准控制所述前驱气体的温度、流速、流量和压力等工艺参数，满足原子层沉积工艺或其它半导体工艺的高精度需求，提高工艺效果。

天眼查资料显示，芯恩（青岛）集成电路有限公司，成立于2018年，位于青岛市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本1006720.789212万人民币。通过天眼查大数据分析，芯恩（青岛）集成电路有限公司共对外投资了2家企业，参与招投标项目167次，财产线索方面有商标信息15条，专利信息664条，此外企业还拥有行政许可55个。

本文源自：金融界

作者：情报员