金融界2025年5月28日消息，国家知识产权局信息显示，天合光能股份有限公司申请一项名为“掩膜的制备方法及其应用”的专利，公开号CN120048728A，申请日期为2025年03月。

专利摘要显示，本申请属于太阳能电池领域，提供一种掩膜的制备方法和应用。该方法包括以下步骤：提供含硅基材；在所述含硅基材的一侧表面进行第一激光处理，以形成第一图案化掩膜层；对经过所述第一激光处理的所得物进行第一湿法刻蚀，以使非图案化掩膜层区域被刻蚀；对经过所述第一湿法刻蚀的所得物进行第一图案化掩膜层的第一去除处理；对去除所述图案化掩膜层的区域进行第二激光处理，以得到第二图案化掩膜层。

天眼查资料显示，天合光能股份有限公司，成立于1997年，位于常州市，是一家以从事电力、热力生产和供应业为主的企业。企业注册资本217936.4548万人民币。通过天眼查大数据分析，天合光能股份有限公司共对外投资了21家企业，参与招投标项目5000次，财产线索方面有商标信息774条，专利信息4013条，此外企业还拥有行政许可44个。

本文源自：金融界

作者：情报员