金融界2025年6月23日消息，国家知识产权局信息显示，盛吉盛（韩国）半导体科技有限公司申请一项名为“半导体工艺设备”的专利，公开号CN120183991A，申请日期为2023年12月。

专利摘要显示，本发明提供一种半导体工艺设备，包括远程等离子体源，用于生成等离子体；反应腔室；连接区域，通过所述连接区域将所述远程等离子体源生成的等离子体输送至所述反应腔室；所述连接区域至少包括设置在所述远程等离子体源上的等离子体输出口处的排气歧管；在所述排气歧管上设置有至少一个约束性磁体。

本文源自：金融界

作者：情报员