ASML申请产生光子晶体光纤方法专利,制造出毛细管壁厚度小于200 nm的光纤
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金融界2025年6月25日消息,国家知识产权局信息显示,ASML荷兰有限公司;马克斯-普朗克科学促进协会申请一项名为“产生光子晶体光纤的方法”的专利,公开号CN120202170A,申请日期为2023年10月。
专利摘要显示,披露了一种制造光纤的方法,所述光纤包括外部护套和限定中空芯部的多个毛细管。所述方法包括:获得光纤制造中间产品;和从所述光纤制造中间产品拉伸光纤。所述拉伸使得经拉伸的光纤中的每个毛细管的光纤级毛细管壁厚度小于200 nm,并且在所述拉伸期间施加的拉力大于20 MPa。
本文源自:金融界
作者:情报员
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