金融界2025年7月22日消息，国家知识产权局信息显示，ASML荷兰有限公司申请一项名为“光刻设备、量测系统、自适应相控阵照射和收集器装置及其方法”的专利，公开号CN120359462A，申请日期为2023年11月。

专利摘要显示，一种系统包括辐射源、相控阵和检测器。所述相控阵生成辐射束并将所述束朝向衬底上的目标结构引导。所述相控阵包括多个光学元件和波导。所述多个光学元件透射辐射波。所述多个波导将来自所述辐射源的辐射引导到所述多个光学元件。所述多个波导中的每个波导的一部分包括调整所述辐射波的相位以使得所述辐射波累积以形成束的材料。以非易失性和可逆方式调整波导中所述材料的光学性质，同时监测由光学相控阵形成的束，直到获得期望的束轮廓为止。所述检测器接收由目标散射的辐射，并且基于所接收的辐射来生成测量信号。

本文源自：金融界

作者：情报员