金融界2025年8月8日消息，国家知识产权局信息显示，宁波普莱特半导体设备有限责任公司申请一项名为“晶片电镀设备”的专利，公开号CN120443312A，申请日期为2025年06月。

专利摘要显示，本发明涉及一种晶片电镀设备，包括：电镀腔室，其设置第一进液口和第二进液口；旋转组件，其用于夹持并旋转晶片，使晶片的下表面与电镀腔室内的电镀液接触；导流元件，导流元件包括相连通的空腔、第三进液口以及至少一个第一出液口；至少一个第一出液口上设有挡流装置，挡流装置用于控制通过第一出液口的电镀液的流向；导流元件上还设置有通孔，通孔贯穿导流元件设置。本发明的晶片电镀设备的挡流帽通过顺时针/逆时针螺旋分布或同向偏转，强制改变电镀液流向，形成可控的旋流或层流，抵消旋转组件带来的离心效应，使晶片边缘与中心的镀层厚度更均匀。

天眼查资料显示，宁波普莱特半导体设备有限责任公司，成立于2024年，位于宁波市，是一家以从事专用设备制造业为主的企业。企业注册资本662.5万人民币。通过天眼查大数据分析，宁波普莱特半导体设备有限责任公司专利信息2条。

本文源自：金融界

作者：情报员