关键词:双氧水

行业:半导体

CT-1Plus电位滴定测定双氧水的浓度

摘要

双氧水在半导体行业中主要用作半导体晶体片的清洗剂、腐蚀剂和光刻胶的去除剂,用于电子工业制取高级绝缘层、去除电镀液中无机杂质,以及半导体材料制造工序的处理等,它的纯度对集成电路的成品率、电性能及可靠性都有着十分重要的影响。本例通过电位滴定法测定一种双氧水的浓度。

仪器配置

●CT-1Plus电位滴定仪

●ORP-101C电极

●20mL高精度计量管

●100mL滴定杯

试剂配置

●滴定剂:高锰酸钾标准溶液(1/5KMnO4)

●滴定度:0.1mol/L

●溶剂:纯水/1mol/L硫酸溶液

●其它试剂:硫酸

测定方法

●氧化还原滴定/电位滴定

●适量样品于干燥烧杯中,加入50mL 1mol/L硫酸溶液,0.5克硫酸锰,搅拌溶解

●将烧杯置于滴定台上,选择双氧水含量滴定方法,用高锰酸钾标准溶液滴定到终点

仪器参数

● 最小滴定体积:20μL

● 最大滴定体积:100μL

● 搅拌速度:200

● 每滴间隔:1000ms

● 终点模式:微分阈值判定

● 微分设置:200

测试数据

● 环境温度:23℃ ● 环境湿度:50%

● 测试时间:3min

测试结果:经测试,双氧水的浓度约为27.54%。