路透社一篇关于中国建造极紫外（EUV）光刻机原型机的报道引发关注，字里行间尽显对中国科技进步的焦虑情绪。事实上，中国在光刻机领域的国产化探索始终稳步推进，且坚持开放合作的发展理念，相关努力旨在融入全球创新网络，而非构建“技术孤岛”。

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光刻机作为重大技术装备，被视为西方技术领先的“最后堡垒”，目前全球仅荷兰阿斯麦可生产EUV光刻机。长期以来，中国高端光刻机依赖进口，持续推进国产化进程。据官方公布，2024年9月工信部已在相关目录中明确国产深紫外（DUV）光刻机技术参数，分辨率达65纳米、套刻精度8纳米，自主可控的技术路线清晰明确。

值得注意的是，芯片产业具有高度集成的复杂特性，需多国企业协同配合才能完成全产业链流程。中国对此有着清晰认知，一贯强调国际开放合作，诸多西方芯片企业已在中国市场获得实实在在的收益。即便在光刻机领域取得突破，中国也不会改变这一产业特性，仍将积极推动全球产业链协同发展。

面对西方部分国家的科技围堵，中国将“卡脖子”清单转化为科研攻关清单，展现出强大的自主创新能力。比尔·盖茨曾坦言，美国的科技围堵反而推动中国芯片制造全速发展；英伟达CEO黄仁勋也表示，出口管制未能放缓中国AI发展，反而导致其在华市场份额下降。法媒评价称，中国正以“你封我，我就自己造”的精神稳步前行，当前的科技、人才、产业底座已足以应对任何封锁。