国家知识产权局信息显示，杭州聚纬科技工程有限公司取得一项名为“一种反应器的再分布器及反应器”的专利，授权公告号CN223697659U，申请日期为2024年12月。

专利摘要显示，本申请公开了一种反应器的再分布器，包括底板，所述底板设有贯通底板前后的第一流通结构及第二流通结构，所述第一流通结构与第二流通结构分别具有入口端，所述第一流通结构的入口端位于第二流通结构的入口端的前方。通过再分布器上第一流通结构及第二流通结构的设置，第一流通结构的入口端位于第二流通结构的入口端的前方，使第一流通结构的入口端设于液相内、而第二流通结构的入口端在液相外，液相即可经第一流通结构进行流通，而气相则经第二流通结构进行流通，同时实现气体进料、气液分离、气相再分布和液相再分布，可大幅增强气液并流反应器的传质能力。

天眼查资料显示，杭州聚纬科技工程有限公司，成立于2021年，位于杭州市，是一家以从事研究和试验发展为主的企业。企业注册资本500万人民币。通过天眼查大数据分析，杭州聚纬科技工程有限公司参与招投标项目4次，专利信息7条。

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作者：情报员