国家知识产权局信息显示，启迪原子私人有限公司申请一项名为“基于强化学习的半导体工艺系统自主工艺配方生成方法”的专利，公开号CN121279061A，申请日期为2025年7月。

专利摘要显示，本发明公开了基于数字孪生体采用强化学习(RL)自主生成半导体工艺配方的系统及方法。通过采用神经网络版的数字孪生体，所述系统提升了计算效率，能够探索大规模的参数空间。在策略神经网络和蒙特卡洛树搜索(MCTS)程序引导下，RL智能体能够自主生成大量学习案例，计算相应的奖励，并持续优化所述策略神经网络。

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作者：情报员