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光刻机是芯片厂的核心，专门用来把电路图案刻到硅片上。高端的EUV光刻机，用极端紫外光源，那光波长短到13.5纳米，能刻出超级细的线条。问题是产生这种光源得靠激光轰击锡滴，转化效率低得可怜，只有0.02%左右。
输入电力得0.125兆瓦，才能输出250瓦的有效光。算下来，一台机器一天运行24小时，耗电量在2.5万到3万度之间。全年不开关机的话，年用电量轻松上千万度。数据来自行业报告，比如ASML公司的设备规格。
为什么不能关？因为启动过程复杂，温度、真空环境得稳定，关了重启费时费力，还可能影响精度。芯片厂里不止一台，通常几十台并行，整体电费就成了大头。台积电那些大厂，年电费上亿不是新闻。耗电大头在光源和冷却系统上，热量散不掉就得额外用电降温。
整个晶圆厂还得保持超净间恒温22度，空调、净化设备也吃电。加起来，先进制程厂的电力需求跟小城市差不多。
三峡发电站作为世界最大水电站，总装机容量2250万千瓦，34台机组齐发力。2024年全年发电量在1000亿度以上，具体数据是长江流域梯级电站总发电2959亿度，三峡单站贡献大头。平均下来，日发电量2.7亿到3亿度不等。
丰水期更高，能到5亿度峰值。2025年上半年，累计发电已经破1.8万亿度，从2003年投产到现在，相当于省了5.4亿吨标准煤，减排二氧化碳14.8亿吨。
电站靠长江水流推动涡轮发电，清洁高效，不烧煤不排烟。电力通过特高压电网送往华中、华东、广东等地，覆盖亿万人用电。比起火电，水电成本低，稳定性强，调峰能力好，能在用电高峰期顶上。
现在对比一下，光刻机一天3万度，三峡一天2.8亿度，那一台机器一天只用电站输出的万分之一。全年光刻机1095万度，三峡一天就够它用25年多。精确算，2.8亿除3万是9333天，折合25.5年。参考资料里说23年，可能用了稍低的数据，但大差不差。
就算芯片厂里有100台光刻机，三峡一天发电也够它们用两年半。现实中，中国半导体产业用电分散在全国电网，三峡只是其中一部分。
全国总发电量2024年超9万亿度，高科技产业那点耗电占比小得很。光刻机贵在精密，不是电费决定成败。电费虽高，但对芯片售价来说，摊薄后不算啥。
关键是技术突破，国产光刻机从90纳米起步，现在上海微电子有65纳米级别设备在推。进口ASML的DUV机还能用，EUV虽受限，但国内研发没停。
半导体是国家战略，芯片短缺闹过多少事儿，大家都记得。电力保障稳了，高耗能设备才能放心跑。三峡这种巨型电站，就是后盾。想想看，没有可靠电力，工厂停摆，损失更大。
2025年第一季度，三峡梯级电站发电576亿度，同比增长9%，来水丰沛。
未来，随着更多电站上线，电力供给更充裕。半导体厂会优化能效，比如回收热量，ASML也在改进光源效率。
整体看，中国电力结构在转型，水电占20%，风光核电在涨。光刻机耗电是挑战，但不是瓶颈。
水电不光发电，还防洪、航运。长江流域经济靠它稳。
半导体产业，电力是基础，没电啥都白搭。
中国有三峡，底气足。
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