国家知识产权局信息显示，上海华力集成电路制造有限公司申请一项名为“一种抗浸出的浸没式光阻及其制备方法”的专利，公开号CN121343038A，申请日期为2025年9月。

专利摘要显示，本发明公开了一种抗浸出的浸没式光阻及其制备方法，其中，制备方法包括将将光致酸剂结合于杯芳烃或其衍生物，形成功能超分子，其中，杯芳烃或其衍生物至少具有含氟的侧链，以及含羟基；之后将功能超分子与甲基丙烯酸或其衍生物发生酯化反应得到聚合物单体；最后，聚合物单体之间通过自由基聚合反应得到高分子树脂，即抗浸出的浸没式光阻。本发明提供的制备工艺简单，合成难度低，且生产成本低，易于工业化，得到的抗浸出的浸没式光阻抗浸出效果好，且能效防止浸没液中水分等组分溶剂渗入胶体导致的溶胀避免图形变性，还具备很好的抗刻蚀能力，使用该浸没式光阻时，无需使用顶部涂层，还有助于延长镜头使用寿命。

天眼查资料显示，上海华力集成电路制造有限公司，成立于2016年，位于上海市，是一家以从事软件和信息技术服务业为主的企业。企业注册资本2960000万人民币。通过天眼查大数据分析，上海华力集成电路制造有限公司参与招投标项目2094次，专利信息2666条，此外企业还拥有行政许可397个。

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作者：情报员