随着半导体技术节点不断微缩,2nm时代已悄然拉开序幕。在这一关键节点,材料验证的精准度与设备的高可靠性不再是简单的生产要求,而是决定制程成败、良率高低乃至企业竞争力的核心要素。从光刻胶的分子设计到CVD薄膜的界面控制,从离子注入的剂量稳定性到蚀刻设备的工艺重复性,每一个环节的微小偏差都可能引发链式反应,影响最终芯片性能。
面对日益复杂的制程整合挑战,半导体行业正迎来从“经验驱动”到“数据驱动”的转型。AI预测性维护与大数据分析的引入,正逐步实现设备零停机、制程实时优化的目标。然而,技术的快速迭代也带来知识断层——许多从业者虽熟悉传统流程,却对新材料、新设备、新管理模式的系统整合感到力不从心。
为此,我们特别推出“半导体工艺&设备与关键技术”课程,旨在为行业培养具备前瞻视野与实战能力的制程整合人才。
即将开班课程:半导体工艺&设备与关键技术
01
|讲师简介
郭博士兼具深厚学术背景与丰富产业经验,曾任半导体公司技术研发总监、光电新创共同创办人、台湾上市柜集团行销与技术副总;
专长涵盖纳米光学精密模具、半导体封装技术、真空与薄膜制程、材料分析检测,擅长将理论研究与产业应用紧密结合。
02
|课程大纲概览
(1)半导体制程整合概论与制造全貌
(2)光刻技术精要:从DUV到EUV的光阻与曝光系统
(3)薄膜沉积核心技术:CVD, PVD, ALD原理与应用战场
(4)离子注入与刻蚀技术:精准掺杂与图形转移的利器
(5)制程设备架构与良率管理、缺陷分析策略
(6)先进制程挑战案例研究与未来技术风向
03
|课程效益
(1)建立半导体前段制程的全流程知识体系
(2)掌握关键材料评估与设备运维的核心方法
(3)提升制程整合与良率管理的实战能力
(4)了解AI与大数据在半导体制造中的应用场景
(5)增强在研发、制造、设备、品保等岗位的技术竞争力
课程培训回顾
2026年1月9日至10日,由杨老师主讲的“先进封装演进与制程关键技术” 课程在上海圆满落幕。作为聚焦半导体前沿的高端技术培训,本课程系统拆解从FOWLP、2.5D/3D IC到CoWoS、SoIC、Hybrid Bonding与TSV/TGV等核心制程,精准回应AI/HPC时代对“超越摩尔定律”的封装突破需求。
互动深度:答疑精准,激发思辨
课程中,杨老师以“问题驱动”模式引导深度互动,对学员提出的“如何平衡3D堆叠中TSV密度与热阻矛盾”“Hybrid Bonding良率瓶颈的工艺补偿策略”等高阶问题,实现从“知道是什么”到“理解为什么”再到“掌握怎么做”的认知跃迁,互动质量获学员一致高评。
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技术决胜在细节,制程赢在整合。
我们持续聚焦半导体核心工艺,推动行业知识传播与技术交流。
2nm不仅是制程的数字,更是技术逻辑与管理思维的全面升级。材料、设备、数据、智能——四大维度缺一不可。
欢迎报名《半导体工艺&设备与关键技术》课程,一起深入工艺底层,构建制程全局观,助力个人与企业在2nm时代稳健前行。
课程名额有限,立即报名,共同迈向智能制造的芯未来!
报名信息
Registration Information
培训报名咨询:
任老师 18621703782(同微信)
梁老师 18621703936(同微信)
开课时间:2026年1月23日--24日
报名时间:即日起--2026年1月20日
报名费用:
4500元/人/每课(含2天午餐+1天晚宴)
早鸟价: 前10名立减200元,即4300元/人;
组团价: 3人及以上组团报名,4000元/人(不可与早鸟同享)。
培训地点:
上海浦东新区东方路710号汤臣金融大厦24F
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