国家知识产权局信息显示，上海车仪田科技有限公司申请一项名为“一种半导体刻蚀终点的检测方法及多通道检测系统”的专利，公开号CN121398557A，申请日期为2025年12月。

专利摘要显示，本发明公开了一种半导体刻蚀终点的检测方法及多通道检测系统，检测方法，包括以下步骤，输出检测光线；将检测光线展开为连续光谱带；将连续光谱带成像至数字微镜器件的调制面，对应连续光谱带的每个窄带波长建立像素组；对连续光谱带进行空间采样，为每个像素组分配并写入唯一的射频调制频率f；以射频调制频率f对各像素组分别执行振动式开关调制，以将连续光谱带的波长信息转换为时域频率光信号；将时域频率光信号转换为时域电信号；对时域电信号进行频域分析，解调出与各调制频率对应的气体吸收光强；根据气体吸收光强的变化趋势，判断半导体刻蚀终点。本发明能够通过单个探测器能够实现多个光谱通道并行检测，以判断刻蚀终点。

天眼查资料显示，上海车仪田科技有限公司，成立于2022年，位于上海市，是一家以从事其他制造业为主的企业。企业注册资本283.866万人民币。通过天眼查大数据分析，上海车仪田科技有限公司共对外投资了3家企业，财产线索方面有商标信息2条，专利信息72条，此外企业还拥有行政许可3个。

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作者：情报员