国家知识产权局信息显示,惠州通志半导体材料有限公司申请一项名为“电镀搭桥设备及通孔电镀搭桥方法”的专利,公开号CN121407183A,申请日期为2025年11月。
专利摘要显示,本发明揭示一种电镀搭桥设备及通孔电镀搭桥方法,包括槽体、电极、挂具及喷头,其中,槽体包括腔体,腔体包括隔板、内腔体及外腔体,隔板设于内腔体及外腔体之间以分隔内腔体及外腔体;隔板两端具有横板,横板上设有多个透过孔,电极对应设有两组,分别安装于外腔体且正对于横板,挂具包括横梁及悬挂组件,横梁沿槽体宽度方向架设于槽体上,悬挂组件挂设于横梁上且位于内腔体的中心处。即申请中,通过腔体及挂具的设计实现电场分布控制,有效解决了桥接结构位置偏移及形态不均的问题。
天眼查资料显示,惠州通志半导体材料有限公司,成立于2022年,位于惠州市,是一家以从事科技推广和应用服务业为主的企业。企业注册资本100万人民币。通过天眼查大数据分析,惠州通志半导体材料有限公司专利信息2条,此外企业还拥有行政许可6个。
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本文源自:市场资讯
作者:情报员
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