国家知识产权局信息显示,无锡金源半导体科技有限公司申请一项名为“一种薄膜沉积设备用喷淋头气体混合结构”的专利,公开号CN121407061A,申请日期为2025年12月。
专利摘要显示,本发明公开了一种薄膜沉积设备用喷淋头气体混合结构,属于半导体生产技术领域,包括两个用于调节输入气体压力的调压机构,调压机构上设置有用于调节输入气体流速的调速机构,调速机构上设置有用于将多种气体进行混合的混合机构;本发明设置的调压机构能够实时监测第一种气体的进气压力,当压力正常时,气体走常规路径,当压力不足时,系统能无延迟地自动切换至增压路径,利用离心叶轮对气体进行加压,确保输出压力稳定在预设范围内;本发明设置的调速机构采用独特的六边形调节流板设计,通过斜槽转盘和电机驱动,可实现六个调节流板的同步、等距开合,能够对气体流速进行调节,确保了第一种气体能够匹配第二种气体的流速。
天眼查资料显示,无锡金源半导体科技有限公司,成立于2019年,位于无锡市,是一家以从事批发业为主的企业。企业注册资本2780.932万人民币。通过天眼查大数据分析,无锡金源半导体科技有限公司共对外投资了3家企业,参与招投标项目10次,财产线索方面有商标信息5条,专利信息53条,此外企业还拥有行政许可21个。
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本文源自:市场资讯
作者:情报员
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