国家知识产权局信息显示，北京集成电路装备创新中心有限公司申请一项名为“一种刻蚀工艺的工艺参数调试方法及半导体工艺设备”的专利，公开号CN121413396A，申请日期为2025年8月。

专利摘要显示，本发明提供了一种刻蚀工艺的工艺参数调试方法及半导体工艺设备，该工艺参数调试方法包括：获取待调试刻蚀工艺的历史刻蚀数据；其中，历史刻蚀数据包括关键工艺参数的数值和刻蚀结果；将历史刻蚀数据和期望刻蚀结果输入人工智能模型，得到人工智能模型输出的多个调试计划；其中，调试计划包括多组优化后的关键工艺参数的数值；对调试计划进行参数验证，将多个调试计划中满足工艺要求的关键工艺参数作为调试得到的工艺参数。本发明采用较少的实验验证即可得到满足工艺要求的关键工艺参数，调试过程简单，计算量小，耗费时间较短，调试得到的关键工艺参数更加准确，节约了调试成本。

天眼查资料显示，北京集成电路装备创新中心有限公司，成立于2019年，位于北京市，是一家以从事其他制造业为主的企业。企业注册资本1113950万人民币。通过天眼查大数据分析，北京集成电路装备创新中心有限公司共对外投资了1家企业，参与招投标项目4次，财产线索方面有商标信息1条，专利信息113条，此外企业还拥有行政许可6个。

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本文源自：市场资讯

作者：情报员