国家知识产权局信息显示，东方晶源微电子科技（上海）有限公司申请一项名为“测试光罩的版图绘制方法及相关产品”的专利，公开号CN121433552A，申请日期为2025年10月。

专利摘要显示，本发明提供了一种测试光罩的版图绘制方法及相关产品。版图绘制方法包括显示测试图形单元的图形参数界面；响应于用户对图形参数界面的图形构建指令，确定出测试图形单元的自定义参数；显示辅助单元的辅助配置界面；响应于用户对辅助配置界面的辅助构建指令，确定出辅助单元的自定义内容；显示测试光罩的版图绘制界面；响应于用户对版图绘制界面的版图绘制指令，在测试光罩上绘制测试图形单元，然后布置辅助单元，使得辅助单元以预设偏移量相对测试图形单元偏移设置。本版图绘制方法实现了独立地绘制测试图形单元和辅助单元，且有效约束测试光罩中测试图形单元和辅助单元的相对位置，提升了版图设计的灵活性、绘制质量和绘制效率。

天眼查资料显示，东方晶源微电子科技（上海）有限公司，成立于2021年，位于上海市，是一家以从事科技推广和应用服务业为主的企业。企业注册资本10000万人民币。通过天眼查大数据分析，东方晶源微电子科技（上海）有限公司共对外投资了1家企业，专利信息47条，此外企业还拥有行政许可1个。

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本文源自：市场资讯

作者：情报员