国家知识产权局信息显示，3M创新有限公司申请一项名为“自主产生厌氧环境的培养装置及其使用方法”的专利，公开号CN121428055A，申请日期为2014年10月。

专利摘要显示，自主产生厌氧环境的培养装置及其使用方法。本发明提供了一种自主产生厌氧环境的培养装置。所述培养装置包括：第一基底，所述第一基底具有相背的内表面和外表面；第二基底，所述第二基底具有相背的内表面和外表面；生长区域，所述生长区域被布置在所述第一基底的所述内表面与所述第二基底的所述内表面之间；酶介导耗氧体系中有效量的基本干燥的酶组分；所述酶介导耗氧体系中有效量的基本干燥的酶底物组分；以及被布置在所述生长区域中的冷水可溶的干燥胶凝剂。所述酶组分和所述酶底物组分被布置在所述生长区中的涂层内。所述第一基底和所述第二基底基本无法透过气态氧。本发明还提供了制备和使用所述培养装置区域的方法。

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作者：情报员