国家知识产权局信息显示，中芯国际集成电路制造（上海）有限公司申请一项名为“光学邻近修正方法及系统、掩膜版、设备及存储介质、计算机程序”的专利，公开号CN121432792A，申请日期为2024年7月。

专利摘要显示，一种光学邻近修正方法及系统、掩膜版、设备及存储介质、计算机程序，方法包括：提供待修正图形，待修正图形包括多个主图形；基于在主图形周围设置辅助图形的设置规则，在主图形的周围设置第一辅助图形；设置第一辅助图形之后，获取待修正图形中不满足光刻工艺窗口限制要求的相邻主图形，并将该相邻主图形之间的区域作为禁止区域；移除禁止区域中的第一辅助图形；移除禁止区域中的第一辅助图形之后，将靠近禁止区域的主图形的边缘沿第二方向进行收缩处理，形成修正后主图形；基于在主图形周围设置辅助图形的设置规则，在相邻修正后主图形之间设置第二辅助图形。能够增大相邻修正后主图形之间的光刻工艺窗口(Process Window)，从而提高了图案传递精度。

天眼查资料显示，中芯国际集成电路制造（上海）有限公司，成立于2000年，位于上海市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本244000万美元。通过天眼查大数据分析，中芯国际集成电路制造（上海）有限公司共对外投资了4家企业，参与招投标项目129次，财产线索方面有商标信息150条，专利信息5000条，此外企业还拥有行政许可446个。

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作者：情报员