国家知识产权局信息显示，塞姆西斯科有限责任公司申请一项名为“用于对基底的至少两个不同基底表面进行不同电解表面处理的电流分配系统”的专利，公开号CN121443780A，申请日期为2024年6月。

专利摘要显示，本公开涉及一种用于对基底的至少两个不同基底表面进行不同电解表面处理的电流分配系统和一种用于对基底的至少两个不同基底表面进行不同电解表面处理的电流分配方法。分配系统包括基底支架和电控制单元。基底支架被配置为固持基底。基底支架还被配置为与基底的两个基底表面以及电控制单元电接触。电控制单元被配置为分别控制流向至少两个不同基底表面的电流，以在至少两个不同基底表面上获得不同的电解表面处理。

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作者：情报员