光刻机对芯片的重要性，相信关注芯片产业的人都清楚，那真的是至关重要的。
而目前全球的光刻机格局，大家也清楚，ASML一家独大，佳能技术一般般，但凭借成熟工艺设备，市场份额倒是排在第二名，再是尼康，再是上海的微电子。
从技术上来看，ASML独霸全球，再是尼康，再是佳能、上海微电子。
上面这个图，是非常明显的，展示了当前的市场格局，技术分层等情况。可以看到，不管是从市场来看，还是从技术来看，国产光刻机厂商上海微电子，和前面的厂商，还是有距离的。
不过，虽然有差距，但也证明提升的空间非常大，只要上海微电子多努力，那么发展将是迅速的。
近日，有机构统计了2025年全球前30大半导体设备厂商，我们发现上海微电子，经过这几年的努力，已经冲到了全球第20名。
如上图所示，目前全球前20名，中国大陆只有三家企业上榜，而上海微电子排在第20名，也是上榜的企业之一，也是国内唯一的光刻机整机厂。
为何能够成为全球前20名，是因为上海微电子这几年发展迅速，虽然技术与ASML有一定的差距，但也在慢慢的追上来了，目前已经达到了干式DUV的水平，也就是ArF的水平。
虽然在前道光刻机上有差距，但上海微电子在后道光刻机这一块，是非常强的，后道光刻机也就是封装光刻机，相对而言，对分辨率工艺要求没有那么的高，每年出货量几百台。
并且后道光刻机方面，已被国内众多的封测企业采用，大批量的订购，所以上海微电子能够杀进全球前20名。
按照媒体的说法，目前上海微电子的光刻机，离浸润式光刻机，已经只有一步之遥了，因为干式DUV，与浸润式DUV，光源相同，工作台也相同，差的只是一套浸润式系统，这套系统就是在工作台前，有一层水为介质。
目前国内很快就会突破这一技术，而一旦进入浸润式光刻机领域，那么国产光刻机，将全面崛起，不必看ASML的脸色了，因为浸润式光刻机，也是能够支持到5nm，甚至3nm芯片的。
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