国家知识产权局信息显示，恩特格里斯公司申请一项名为“选择性钌沉积和相关系统与方法”的专利，公开号CN121464240A，申请日期为2024年6月。

专利摘要显示，本发明提供选择性钌沉积和相关系统与方法。方法包括：使钌前体的至少一部分汽化以产生经汽化钌前体；使衬底的第一表面部分和第二表面部分与所述经汽化钌前体和至少一种还原气体接触；以及相对于所述衬底的所述第二表面部分以至少25Å的选择性将钌沉积于所述衬底的所述第一表面部分上。装置包括：衬底，其具有第一表面部分和邻近于所述第一表面部分的第二表面部分；以及钌层，其位于所述衬底的所述第一表面部分上，其中所述钌层在所述衬底的所述第一表面部分上具有至少25Å的厚度；其中所述衬底的所述第二表面部分不包括钌。

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作者：情报员