国家知识产权局信息显示，上海新毅东半导体科技有限公司申请一项名为“光刻机曝光任务管理方法、装置、光刻机及存储介质”的专利，公开号CN121454871A，申请日期为2025年10月。

专利摘要显示，本发明公开了一种光刻机曝光任务管理方法、装置、光刻机及存储介质。该方法包括：响应于曝光任务开始指令，从数据库中读取预先构建的多维任务表，其中，所述多维任务表包括所述曝光任务中多个曝光子任务的任务索引以及每个任务索引对应的任务流转索引，所述任务流转索引表示任一任务索引对应曝光子任务的下一待执行的曝光子任务；基于所述多个曝光子任务的任务索引以及所述每个任务索引对应的任务流转索引执行各曝光子任务。上述技术方案，将曝光任务按照预先配置的多维任务表依次流转与执行，即可以通过配置多维任务表满足不同的曝光控制需求，实现了光刻机曝光任务的动态管理，提升了光刻机曝光任务调度的灵活性。

天眼查资料显示，上海新毅东半导体科技有限公司，成立于2022年，位于上海市，是一家以从事科技推广和应用服务业为主的企业。企业注册资本2000万人民币。通过天眼查大数据分析，上海新毅东半导体科技有限公司参与招投标项目1次，专利信息25条，此外企业还拥有行政许可3个。

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作者：情报员