国家知识产权局信息显示，瑞昱半导体股份有限公司申请一项名为“运用全域背光调整修正区域调光参数的方法与电路系统”的专利，公开号CN121506043A，申请日期为2024年8月。

专利摘要显示，一种运用全域背光调整修正区域调光参数的方法与电路系统，电路系统连接显示器的背光控制电路，其中执行运用全域背光调整修正区域调光参数的方法。在方法中，接收影像后，统计影像经切分为多个区域的各区域的像素值，得出各区域的分区最大值以及分区平均值，以及全域平均值。可根据分区最大值与分区平均值的分区差值检测具有暗场光晕的区域，并运用阀值判断出暗场光晕对整体影像的影响，得出漏光程度，以能同时根据漏光程度以及对应全域平均值的调降背光亮度的调整比例计算出在执行区域调光后进行全域背光调整的增益值。

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作者：情报员