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案例:电子行业危废暂存间氟化物处理

项目背景

某半导体工厂危废间存放蚀刻废液、废显影液等含氟废物,废气中氟化氢(HF)浓度超标。需在原有酸雾净化系统基础上增加氟化物专项处理单元,满足《电子工业污染物排放标准》(GB39731-2020)氟化物≤5mg/m³要求。

废气成分及来源

主要污染物为氟化氢(20-50mg/m³)、硝酸雾及硅烷衍生物,废气具有腐蚀性强、含尘量高的特点。系统设计风量20000m³/h,温度常温。

处理工艺流程

创新采用"旋风除尘+两级碱洗+钙法深度处理"工艺:

旋风除尘器

:去除废气中90%以上颗粒物,防止后续设备堵塞。

一级碱洗塔

:5%NaOH溶液喷淋,主反应区pH值维持10-11,去除大部分HF。

二级钙法反应塔

:添加氯化钙溶液(Ca²⁺浓度8%),生成CaF₂沉淀,配套板框压滤机处理污泥。

除雾器

:PP材质丝网除雾,液滴携带量<50mg/m³。

最终效果

氟化物排放浓度稳定在2.3-3.8mg/m³,钙法单元氟资源回收率达75%,年回收氟化钙污泥42吨。设备采用PPH材质,使用寿命预计超10年。