国家知识产权局信息显示,浙江道明光电科技有限公司申请一项名为“一种TIR透镜及其参数设计方法”的专利,公开号CN121578508A,申请日期为2026年1月。

专利摘要显示,本发明提供了一种TIR透镜及其参数设计方法,方法包括:构建TIR透镜应用场景的光学系统结构;光学系统结构包括环形排布的光源、TIR透镜和含有微结构的光学芯片;光源中的每个子光源都处于其对应的TIR透镜的圆形底部中心;通过光学芯片参数以及光源参数确定配光曲线,并根据配光曲线计算出TIR透镜中第一自由曲线和第二自由曲线的初始参数,然后建立实体仿真模型进行光学追迹仿真;由仿真得到的仿真配光曲线对所述初始参数进行修正后再进行光学追迹仿真;重复上述步骤直至光斑尺寸以及光斑均匀度达到目标。基于本发明设计的TIR透镜在实现小角度高光效照明的同时也能实现整个光斑有较高的均匀度

天眼查资料显示,浙江道明光电科技有限公司,成立于2014年,位于金华市,是一家以从事电气机械和器材制造业为主的企业。企业注册资本10000万人民币。通过天眼查大数据分析,浙江道明光电科技有限公司参与招投标项目9次,专利信息101条,此外企业还拥有行政许可11个。

声明:市场有风险,投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成,仅供参考,不构成个人投资建议。

本文源自:市场资讯

作者:情报员