国家知识产权局信息显示，安徽晶微科技有限公司申请一项名为“一种基于等离子体密度调节的刻蚀均匀性优化方法”的专利，公开号CN121744590A，申请日期为2025年10月。

专利摘要显示，本发明涉及半导体加工控制技术领域，提供了一种基于等离子体密度调节的刻蚀均匀性优化方法，包括如下步骤：步骤1：采集等离子体密度和刻蚀速率，以晶圆中心为原点并沿径向分区生成坐标系，将等离子体密度和刻蚀速率映射至坐标系，得到连续空间分布函数；步骤2：构建关联模型，采用非线性最小二乘法对关联模型拟合，得到等离子体密度与刻蚀均匀性的关系；步骤3：构建多变量预测模型，监测刻蚀中等离子体密度，当等离子体密度分布超出预设阈值时，多变量预测模型反馈并实时调整等离子体密度控制参数。本方法通过量化等离子体密度和刻蚀均匀性的关系，然后监测等离子体密度空间分布来预测刻蚀均匀性并动态调整等离子体分布偏差以提高刻蚀均匀性。

天眼查资料显示，安徽晶微科技有限公司，成立于2025年，位于滁州市，是一家以从事科技推广和应用服务业为主的企业。企业注册资本3000万人民币。通过天眼查大数据分析，安徽晶微科技有限公司专利信息38条，此外企业还拥有行政许可2个。

声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。

本文源自：市场资讯

作者：情报员